PeakPower High LDT Low GDD Ultrafast Mirrors
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- High Femtosecond Laser Damage Threshold exceeding 0.75J/cm2 for 25fs Pulse Duration at 920nm
- > 99.5% Reflectivity with Near Zero Group Delay Dispersion
- Ideal for Advanced Femtosecond Laser Applications
Broadband Dielectric ZERODUR® λ/10 Mirrors
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- 열팽창이 거의 없는 ZERODUR® 기판
- 금속 코팅보다 우수한 반사율 및 LDT 제공
- 0 - 45° 입사각에서 사용할 수 있도록 설계된 자외선(UV), 가시광선(VIS) 및 근적외선(NIR) 반사 코팅
- Metallic Coated ZERODUR® Mirror 보유
UltraFast Innovations (UFI) EUV Attosecond Multilayer Mirrors
- 65eV (19nm)에서 아토초 펄스용으로 설계
- 다중 코팅으로 38%의 최대 반사율 달성
- 초미세 연마된 기판으로 1Å 이하의 표면 거칠기 제공
- 13.5nm에서 설계된 EUV Flat Mirrors 및 EUV Spherical Mirrors 또한 이용 가능
Stemmed Laser Mirrors
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- Stemmed Design으로 설계되어 스템으로 장착 시 미러 표면의 응력 감소
- 표준 레이저 파장에서 99%가 넘는 반사율
- 10-5 표면 품질도로 민감한 레이저 용도에서 산란 감소
- TECHSPEC® Broadband Dielectric 및 Metallic Coated Stemmed Mirrors 또한 이용 가능
Low Cost Nd:YAG Multi-Line Mirrors
- Nd:YAG 고조파 파장
- 266, 355, 532, 1064nm에서 97%가 넘는 반사율
- 뛰어난 가성비
- Nd:YAG Laser Line Mirrors 및 Low Cost Laser Line Mirrors 또한 이용 가능
Nd:YAG Laser Output Couplers
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- 532nm 및 1064nm Nd:YAG 레이저용으로 설계
- Nd:YAG DWL에서 80%의 반사율
- UV 용융 실리카 기판
Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirrors
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- 600 – 1000nm 혹은 800 – 1150nm에서 반사율이 99% 이상
- GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 0±20fs2로 낮음
- Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저에 적합
- 영국식 표준 규격에 맞게 제공 가능
- TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirror 보유
Yb:YAG Laser Line Mirrors
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- Yb:YAG 고조파 주파수에서의 반사율 >99.8%
- 높은 레이저 손상 임계값(LDT) 보장
- 표면 품질: 10-5, 레이저 어플리케이션에 사용할 경우 산란 감소
- TECHSPEC® Laser Mirror Substrate 및 TECHSPEC® Nd:YAG Laser Line Mirror 보유
Nd:YAG Laser Line Mirrors
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Top Seller
- Nd:YAG Harmonic Frequency에서 99.2%가 넘는 반사율
- Laser Induced Damage Threshold가 높은 제품 사양
- 10-5의 표면 품질도로 민감한 레이저 용도에서 산란 감소
- TECHSPEC® Laser Mirror Substrates 및 TECHSPEC® Yb:YAG Laser Line Mirrors 또한 이용 가능
800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
- 780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
- 5° AOI에서 -1300fs2의 Group Delay Dispersion
- Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
- 초고속 처프(Chirped) 코팅
Laser Line λ/20 High Tolerance Right Angle Mirrors
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- 설계 파장에서 99.5%가 넘는 반사율
- ±15 Arcsecond의 각도 허용 오차
- 열적 안정성이 높은 기판
45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors
- 높은 반사율과 음의 Group Delay Dispersion (GDD)
- 45° 입사각에서의 분산 보정 및 빔 압축에 적합
- Ti:sapphire 등의 Femtosecond Laser를 위한 디자인
Knife-Edge Pickoff Mirrors
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- 서로 근접해서 전파하는 두 개의 빔을 분리하도록 설계됨
- 45°Bevel (비스듬한 면)
- 최대 Knife-Edge까지 이르는 코팅 구경
- 강화 알루미늄, 보호용 골드 및 실버 코팅 옵션
Excimer Laser Line Mirrors
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- 1.5J/cm2의 높은 Damage Threshold
- 손실이 낮은 유전체 코팅
- 193nm 및 248nm의 레이저용으로 설계
Diode Laser Line Mirrors
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- 설계 파장에서의 반사율 99.8% 이상
- 파장 범위에서의 탁월한 광대역 성능
- Common Diode Lasers용으로 설계됨
Precision Broadband Laser Mirrors
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- Tunable Lasers 및 다중 Laser Sources 반사에 적합
- 모든 Polarization 상태는 0 - 45°부터 높은 반사율
- 다양한 코팅 옵션 이용 가능
Laser Mirror Substrates
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- 표면 평탄도: λ/10, 표면 품질: 10-5
- 고품질의 용융 실리카 기판
- 원형/직사각형 형태로 영국식 표준 규격에 맞게 제공 가능
- Window Substrate 보유
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