- Thin 1mm Design for Space and Weight Constrained Applications
- Uncoated First Surface Provides Fresnel Reflection
- AR Coated Second Surface Provides High Transmission
- High Laser Damage Threshold to Prevent Laser Ablation
- 30 arcminute Wedge로 내부간섭 최소화
- 광범위한 분할 비율
- 용융 실리카 기판
- 다양한 빔 분할 비율 이용 가능
- VIS 및 NIR 코팅 옵션 제공
- 두 번째 표면은 다층의 AR 코팅 처리
- C-Mounted Plate Beamsplitters 또한 이용 가능
- 다양한 투과/반사 비율 이용 가능
- 두 번째 표면은 BBAR 코팅 처리
- 용융 실리카 기판
- 45°에서 원형 프로파일 생성
- VIS 및 NIR 코팅 옵션 제공
- 확산형 Axial 및 In-line 조명에 적합
- 50/50 및 30/70의 반사/투과율 이용 가능
- 400 – 2000nm에서 높은 성능을 발휘하는 B270 기판으로 제조
- UV-NIR 버전으로 제공
- 두 번째 표면에서의 반사로 인한 고스트 이미지가 발생하지 않음
- 수렴하는 빔에 의한 색수차가 없음
- 광경로의 길이가 변하지 않음
- Pellicle Beamsplitters for the Infrared (IR) 보유
- 코팅되지 않은 첫 번째 표면은 프레넬 반사 제공
- 한쪽 표면에 Laser Damage Threshold가 높은 코팅 처리
- 10-5의 표면 품질도
- Ti:sapphire 및 Yb:doped 광섬유 레이저용 디자인
- 90:10, 70:30, 50:50(R:T) 분할 비율
- 제어된 GDD 반사와 투과
- 532nm 및 1064nm Nd:YAG 레이저용으로 설계
- Nd:YAG DWL에서 80%의 반사율
- UV 용융 실리카 기판
- 45°의 입사각
- S-편광 빛은 반사, P-편광 빛은 투과
- Nd:YAG 고조파 및 HeNe 파장에 사용 가능
- 높은 수치의 레이저 손상 임계값
- 뛰어난 표면 품질
- 입력빔의 편광 상태가 제품 사양에 미치는 영향이 적음
- Wire Grid 기술
- S-Polarized Light를 반사하고 P-Polarized Light는 투과시킴
- 고온 환경에 아주 적합
- 입력 빔을 여러 개의 회절 차수로 분할
- 1차원 Array 또는 2차원 Matrix 출력
- Nd:YAG 및 CO2 레이저용으로 설계
- 싱글 모드 또는 멀티 모드 레이저와 호환 가능
- Pre-Mounted 90 Degree Interface
- 4개의 C-Threaded Mounting Holes
- 다양한 Beamsplitting 옵션 이용 가능
- 추가 C-Mounted Beamsplitters, Filters, 그리고 Mirrors 이용 가능
- 3-5nm 구간에서 45/55의 평균 반사/투과 비율
- 두 번째 표면에서 고스트 이미지가 발생하지 않음
- 빔 변위 제거
- VIS-NIR용 Pellicle Beamsplitter 또한 이용 가능
- 1.5 – 14µm 파장 대역을 커버하는 빔스플리터 코팅
- 45° 입사각에서 50/50의 반사/투과 비율을 갖도록 설계
- 기판 소재: 플루오르화 칼슘/셀렌화 아연
- 가시광선과 적외선(3 - 12µm 파장 대역) 분리
- 가시광선 투과 / 적외선 반사 혹은 가시광선 반사 / 적외선 투과 설계
- 가시광선 가이드 레이저와 MWIR(중적외선) 레이저의 사용에 적합
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