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Low GDD Ultrafast Mirrors

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Low GDD Dielectric Ultrafast Laser Mirrors Low GDD Dielectric Ultrafast Laser Mirrors
TECHSPEC® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기
신제품
  • 설계 파장 대역에서 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 ±20fs2로 낮음
  • 반사율이 99.9% 이상
  • Ti:Sapphire 및 Yb:doped 극초단 레이저에 적합
Ultrafast-Enhanced Silver Coated Off-Axis Parabolic (OAP) Mirrors Ultrafast-Enhanced Silver Coated Off-Axis Parabolic (OAP) Mirrors
TECHSPEC® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기
신제품
  • Ti:sapphire 및 Yb:doped 레이저용 극초단 강화 실버 코팅
  • 600 - 1050nm에서 0 ±20fs2의 낮은 군지연분산(GDD)
  • 50Å RMS 미만의 낮은 거칠기로 산란 최소화
Low GDD Ultrafast Mirrors Low GDD Ultrafast Mirrors
TECHSPEC® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기
  • 극초단 빔 조정을 위해 높은 반사율을 제공하도록 설계
  • Ion-Beam Sputtered Coating으로 산란과 흡수가 낮음
  • 설계 파장에서 0fs2에 근접한 GDD 제공
Dual Band Low GDD Ultrafast Mirrors Dual Band Low GDD Ultrafast Mirrors
TECHSPEC® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기
신제품
  • 반사율이 높고 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 낮아 극초단 빔 조향에 적합
  • IBS 코팅으로 산란 및 흡수 손실 최소화
  • Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저의 1차 고조파와 2차 고조파 모두에서 GDD가 0에 근접
Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirrors Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirrors
TECHSPEC® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기
  • 600 – 1000nm 혹은 800 – 1150nm에서 반사율이 99% 이상
  • GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 0±20fs2로 낮음
  • Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저에 적합
  • 영국식 표준 규격에 맞게 제공 가능
  • TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirror 보유
TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirrors Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirrors
TECHSPEC® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기
  • Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저 펄스 포커싱에 적합
  • 600 – 1000nm 혹은 800 – 1150nm에서 99%가 넘는 반사율
  • GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 0±20fs2로 낮음
  • 유효 초점 거리: 25 - 500mm
  • TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirror 보유
Low GDD Ultrafast Mirrors Low GDD Ultrafast Mirrors 신제품 재고정리
High-Energy Picosecond and Femtosecond Ultrafast Mirrors High-Energy Picosecond and Femtosecond Ultrafast Mirrors 신제품
UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors UltraFast Innovations (UFI) EUV Attosecond Multilayer Mirrors
  • 65eV (19nm)에서 아토초 펄스용으로 설계
  • 다중 코팅으로 38%의 최대 반사율 달성
  • 초미세 연마된 기판으로 1Å 이하의 표면 거칠기 제공
  • 13.5nm에서 설계된 EUV Flat Mirrors 및 EUV Spherical Mirrors 또한 이용 가능
UltraFast Innovations (UFI) High-Power Low-Loss Laser Mirrors UltraFast Innovations (UFI) High-Power Low-Loss Laser Mirrors
  • 1030nm 및 1064nm에서 99.99%가 넘는 반사율
  • 1064nm, 100Hz, 8ns에서 50 J/cm2의 레이저 손상 임계치
  • 나노초, 피코초, 펨토초 레이저 펄스를 위한 범용 설계
  • 맞춤 제작 옵션은 최대 200mm 직경까지 적용 가능
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Low GDD Ultrafast Mirrors 관련 자료 전체 보기  

Low Group Delay Dispersion (GDD) Ultrafast Mirror는 레이저 펄스의 시간적 경과에 따른 추가 분산을 발생시키지 않으면서 초고속 빔을 반사시킬 때 사용됩니다. 이 미러는 설계 파장에 중심이 맞춰진 좁은 밴드폭 주변에서 GDD를 최소화하고 높은 반사율을 제공하도록 최적화된 유전체 코팅 처리를 특징으로 합니다. 일반적으로 초고속 빔 조정 용도에 사용할 수 있도록 0 또는 45o의 입사각으로 설계됩니다. Ultrafast silver coated mirror에 비해 Low GDD Mirror는 반사율과 damage threshold가 높기 때문에 고출력 펨토초 레이저에 사용하기 더욱 적합합니다.

에드몬드 옵틱스는 Ti:sapphire 및 Yb:doped fiber laser harmonics 용도로 설계된 다양한 종류의 Low GDD Mirror를 취급합니다. EO의 Low GDD Mirror는 이온 빔 스퍼터링(IBS) 방식으로 코팅 처리가 되어 균일도가 높은 견고한 코팅력을 보장합니다. 맞춤 파장, 크기 및 기타 특성을 갖춘 Low GDD Mirror가 필요한 경우에는 당사로 문의 바랍니다.

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