
- 1030nm에서 반사율 높음, 940nm에서 투과율 높음
- GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 ±100fs2 미만으로 낮음
- Yb 레이저에 적합한 다이크로익 미러


- 설계 파장 대역에서 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 ±20fs2로 낮음
- 반사율이 99.9% 이상
- Ti:Sapphire 및 Yb:doped 극초단 레이저에 적합


- Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저용 Ultrafast-Enhanced Silver 코팅
- 낮은 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)
- 50Å RMS 미만의 표면 거칠기로 산란 최소화


- 극초단 빔 조정을 위해 높은 반사율을 제공하도록 설계
- Ion-Beam Sputtered Coating으로 산란과 흡수가 낮음
- 설계 파장에서 0fs2에 근접한 GDD 제공


- 반사율이 높고 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 낮아 극초단 빔 조향에 적합
- IBS 코팅으로 산란 및 흡수 손실 최소화
- Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저의 1차 고조파와 2차 고조파 모두에서 GDD가 0에 근접


- 600 – 1000nm 혹은 800 – 1150nm에서 반사율이 99% 이상
- GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 0±20fs2로 낮음
- Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저에 적합
- 영국식 표준 규격에 맞게 제공 가능
- TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirror 보유


- Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저 펄스 포커싱에 적합
- 600 – 1000nm 혹은 800 – 1150nm에서 99%가 넘는 반사율
- GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 0±20fs2로 낮음
- 유효 초점 거리: 25 - 500mm
- TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirror 보유

- 설계파장(DWL)에서 높은 수치의 LIDT 제공
- S 및 P 편광에 대한 높은 반사율
- 고에너지 극초단 레이저 용도에 안성맞춤
- TECHSPEC® High-Performance Low GDD Ultrafast Mirrors 또한 이용 가능

- 65eV(19nm) 기준 330 아토초 펄스를 위한 설계
- 피크 반사율이 38%인 다층 코팅
- 초미세 연마로 1Å 미만의 RMS 표면 거칠기를 구현한 기판
- 13.5nm을 사용하도록 설계된 EUV Flat Mirror 및 EUV Spherical Mirror 보유
- 최소 주문 수량 없음, 코팅 Lot 비용 없음
- 2022 LFW(Laser Focus World) 이노베이터 어워즈에서 플래티넘 상 수상

- 1030nm 및 1064nm에서 99.99%가 넘는 반사율
- 1064nm, 100Hz, 8ns에서 50 J/cm2의 레이저 손상 임계치
- 나노초, 피코초, 펨토초 레이저 펄스를 위한 범용 설계
- 맞춤 제작 옵션은 최대 200mm 직경까지 적용 가능
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