
- 소형 패턴 사이즈 - 100nm 및 3300 lp/mm
- 고정밀 E-Beam Lithography를 이용해 제작됨
- Negative Pattern 디자인

- 유리 위에 Positive와 Negative 패턴
- 두 가지 사이즈 가능
- 각각 박스로 구성, Resolution Value 차트 포함
- 고해상도 타겟 가능 (645 lp/mm까지)

- 4:3 Aspect Ratio로 정리되어 필드로 해상도를 측정
- 각 부분마다 다른 농도 레벨의 4 개의 USAF 타깃

- 유리에 크롬 코팅
- 높은 공차
- 훌륭하게 etch되고 채워진 Rulings
- Edge에 라인 평행
- English와 Metric 버전

- ISO 12233 표준에 따름
- 전체 필드 해상도 교정 제공
- 디지털이나 아날로그 비디오 시그널을 전달하는 단색과 컬러 카메라에 사용 가능
- 3가지 크기

- Resolution, Field 왜곡과 Parfocal Stability 평가를 위해 사용
- Reticle과 Field 교정 요구에 적합
- Opal 기반 위 혹은 형광 막이 있는 Float Glass, Fused Silica, Fused Silica 기반 위에 이용 가능

- Test for Astigmatism
- USAF Test Pattern in Black, Red, Yellow, and Blue
- 6 Elements in 6 Groups

- USAF 1951 Elements 0 to 3 (14 lp/mm)
- Fixed Frequency Grid on 2mm Centers
- 2” x 2.75”

- UV 또는 형광 현미경 교정용으로 설계
- Fluorescent 타겟은 365nm 여기 파장과 550nm 방출 파장 보유
- Negative와 Positive 타겟으로 제공

- 5 lp/mm에서 120 lp/mm나 5 lp/mm에서 200 lp/mm
- 1mm 넓이의 Step 크기
- 5 lp/mm Step 증가
- 비디오 시스템 교정 용도로 사용
- 모르는 해상도 측정
본사 및 지사별 연락처 확인하기
견적 요청 도구
재고 번호 입력 필요
Copyright 2023, 에드몬드옵틱스코리아 사업자 등록번호: 110-81-74657 | 대표이사: 앙텍하우 | 통신판매업 신고번호: 제 2022-서울마포-0965호, 서울특별시 마포구 월드컵북로 21, 7층 (서교동 풍성빌딩)