

- Thin 1mm Design for Space and Weight Constrained Applications
- Uncoated First Surface Provides Fresnel Reflection
- AR Coated Second Surface Provides High Transmission
- High Laser Damage Threshold to Prevent Laser Ablation


- Nd:YAG 고조파를 분리하는 데 사용
- 투과율이 95% 이상인 빔스플리터 코팅
- λ/10의 용융 실리카 기판


- Ultrafast Harmonic 파장을 분리하는 데 사용
- 초고속 빔스플리터 코팅으로 낮은 GDD 제공
- λ/10 미만의 웨이브프론트 왜곡
- Ti:sapphire 및 Yb:doped Femtosecond Laser를 위한 디자인


- Ti:sapphire 및 Yb:doped 광섬유 레이저용 디자인
- 90:10, 70:30, 50:50(R:T) 분할 비율
- 제어된 GDD 반사와 투과

- 입력 빔을 여러 개의 회절 차수로 분할
- 1차원 Array 또는 2차원 Matrix 출력
- Nd:YAG 및 CO2 레이저용으로 설계
- 싱글 모드 또는 멀티 모드 레이저와 호환 가능


- 코팅되지 않은 첫 번째 표면은 프레넬 반사 제공
- 한쪽 표면에 Laser Damage Threshold가 높은 코팅 처리
- 10-5의 표면 품질도


- 편광에 둔감
- 하드 스퍼터링 코팅
- 다양한 크기로 제공


- 10,000:1의 높은 소광비
- 45° 입사각
- Nd:YAG Harmonics와 HeNe 파장에 사용 가능

- 광학식 접촉 설계 방식으로 손상 임계치는 향상되고 접합 부위에서의 형광은 제거됨
- 투과율이 96% 이상인 P-편광 빛
- 1000:1 이상의 높은 소광비


- 3% 미만의 S 편광과 P 편광의 투과율 차이
- 입사 면과 출사 면에 반사율 0.25% 미만의 AR 코팅 처리
- Nd:YAG 및 HeNe 옵션

- 높은 수치의 레이저 손상 임계값
- 뛰어난 표면 품질
- 입력빔의 편광 상태가 제품 사양에 미치는 영향이 적음


- 일반 다이오드, 기체, 고체 레이저용으로 설계
- S-편광 빛은 반사, P-편광 빛은 투과
- 높은 소광비


- VIS 및 NIR 코팅 옵션 제공
- 벤치탑 레이아웃 간소화
- 입사빔을 서로 평행한 두 개의 변위빔으로 분할


- 45°의 입사각
- S-편광 빛은 반사, P-편광 빛은 투과
- Nd:YAG 고조파 및 HeNe 파장에 사용 가능


- 532nm 및 1064nm Nd:YAG 레이저용으로 설계
- Nd:YAG DWL에서 80%의 반사율
- UV 용융 실리카 기판
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