
- S-Polarized Light 반사
- P-Polarized Light 투과
- UV부터 IR에 이르기까지의 탁월한 성능

- 개구수(NA) 값이 높음
- 광섬유 및 LED 결합에 적합
- 용융 실리카, 실리콘, 플루오르화 칼슘 및 셀렌화 아연 기판으로 된 제품 보유


Top Seller


- UV에서 뛰어난 투과율
- 육각 구경으로 처리량 극대화
- 균등하지 않은 광원에 최적화
- 기타 Light Pipe Homogenizing Rods 이용 가능


- 광대역 용도에 매우 적합함
- 면에 알루미늄 도금 및 AR 코팅 처리 가능
- 사이즈 범위: 5mm-50mm
- 별도의 Right Angle Prism 옵션도 이용 가능함


- 빔 확장 또는 광 투사 용도에 적합한 음의 초점 거리
- 널리 사용되는 UV-AR 코팅 옵션 적용 가능
- 대중적인 UV-AR 코팅 옵션 이용 가능


- Beam Expansion이나 Light Projection 어플리케이션을 위한 Negative Focal Length
- 200 - 2200nm의 파장 범위
- 대중적인 UV-AR 코팅 옵션 이용 가능


- 이미징 용도에 안성맞춤
- 구면 수차 및 코마 수차와 같은 광학 수차 최소화
- 정밀 용융 실리카 기판


- Ray Deviation: 90°
- 좌측 이미지
- ±40 Arcsecond Angle 허용 오차
- 별도의 Right Angle Prism 옵션도 이용 가능함


- 입사광은 광원으로 다시 반사되어 돌아감
- UV에서의 탁월한 투과율
- 측량 및 정렬 용도에 적합
- 추가 Corner Cube Retroreflector도 이용 가능함


- Ray Deviation: 90°
- 우측 이미지
- Right Angle을 정의하는 optical tool
- 별도의 Penta Prism 옵션도 이용 가능함


- 시준된 빛을 라인으로 포커싱
- 1mm의 초소형 직경으로도 이용 가능
- N-BK7 및 Fused Silica 기판 옵션


- LIDT 검증 및 보장
- 10-5의 표면 품질도
- λ/10의 표면 정밀도


- 탁월한 UV 투과율
- 낮은 열 팽창 계수
- Ball 및 Half-Ball 옵션 이용 가능


- 0.5° - 5.0°에서 레이저 빔의 경로 변환
- 250 - 1064nm에서 UV - NIR의 빔 조정 용도에 적합
- 검증받은 Laser Damage Threshold로 Nd:YAG 버전에 적합


- GDD를 제한하기 위한 극히 얇은 중심 두께
- 저손실 광대역 IBS 무반사 코팅
- 극초단 및 레이저 광학 용도에 적합
- UV 또는 IR 등급의 용융 실리카 기판


- 중심 두께가 매우 얇음
- UV 또는 IR 용융 실리카 기판
- 광손실이 적은 광대역 IBS 무반사(AR) 코팅


- 레이저 광 포커싱에 적합
- 중심 파장에서 99.8%가 넘는 반사율
- 열적 안정성이 높은 용융 실리카 기판


- 레이저 포커싱 용도에 적합
- 고정밀 용융 실리카 기판
- 맞춤형 코팅 옵션 이용 가능


- UV - IR 범위에서 우수한 성능 제공
- 용융 실리카 기판
- 레이저 광학 기반의 표면 품질


- 1Å RMS 이하의 표면 거칠기로 양쪽 표면 초미세 연마 가공
- 표면 산란이 적어 UV 또는 고출력 레이저 용도에 적합
- 베벨과 엣지 부분이 연마 가공된 UV 용융 실리카 기판
- EO내 제조 시설 보유로 6 - 76.2mm의 크기 및 형태, 0.5Å 미만의 표면 거칠기를 갖는 맞춤 제작 가능


- 비 코팅 처리 또는 광대역 AR 코팅 처리 가능
- 비용에 민감한 광대역 용도에 적합
- 5mm - 100mm 직경의 크기로 제공


- 서로 근접해서 전파하는 두 개의 빔을 분리하도록 설계됨
- 45°Bevel (비스듬한 면)
- 최대 Knife-Edge까지 이르는 코팅 구경
- 강화 알루미늄, 보호용 골드 및 실버 코팅 옵션


- λ/20의 Surface Flatness
- UV Fused Silica 기반
- Laser Optic의 품질


- 정밀 용융 실리카 기판
- 다양한 크기 및 코팅 옵션 이용 가능
- 낮은 열팽창 계수


- 1mm의 두께로 GDD 제한
- 저손실 광대역 IBS 무반사(AR) 코팅
- 370 - 2200nm의 파장을 위한 설계
- ±30fs2의 코팅 GDD
- UV 또는 IR 등급의 용융 실리카 기판


- 1mm의 얇은 두께
- UV 또는 IR 용융 실리카 기판
- 광손실이 적은 광대역 IBS 무반사(AR) 코팅


- 정밀 용융 실리카 기판으로 열안정성 향상
- 시스템 정렬에 안성맞춤
- 강화 알루미늄, 보호 골드, 보호 실버 코팅 적용 가능


Top Seller
- Fused Silica 및 ZERODUR® 기판
- λ/10 및 λ/20 표면 평탄도
- 다양한 코팅 옵션 제공


- 낮은 열팽창 계수
- 0.75μm RMS의 비구면 형상 오류
- 높은 개구수(NA)로 처리량 극대화


Top Seller
- 크기 범위: 지름 ½" - 12"
- 75mm 및 이보다 큰 λ/20 Flat에는 개별 Certificate of Calibration이 포함됨
- Standard Metallic Mirror 코팅 처리 가능: λ/10 및 λ/20 Mirror


Top Seller
- λ/10 및 λ/20 Surface Flatness 옵션
- Zygo Interferometer를 통해 검증됨
- 각각의 λ/20 Flat에는 Certificate of Calibration가 포함됨
- 단면 Optical Flat도 이용 가능


- 표면 평탄도: λ/10, 표면 품질: 10-5
- 용융 실리카 혹은 N-BK7 소재
- 드롭인 교체 솔루션 용도로 영국식 표준 규격에 맞게 제공 가능
- 레이저 라인 코팅 버전 제공
- Mirror Substrate 보유


- P-Polarized Light 손실 감소
- 55.57° 각도에서 원형 프로파일 형성
- Laser Cavities에 사용하기에 아주 적합함


- 266nm, 355nm, 532nm, 1064nm 옵션 이용 가능
- 낮은 자가형광
- 1064nm, 10ns에서 최대 10 J/cm2의 손상 임계치


- 에탈론 효과와 Cavity 피드백 제거
- 30 Arcminute Wedge를 가진 코팅되지 않은 Standard Substrate
- 다양한 용도에 맞는 substrate로 이용 가능


- 정밀 용융 실리카 기판
- 20-10의 표면 품질도
- 낮은 열팽창 계수


- 표면 평탄도: λ/10, 표면 품질: 10-5
- 고품질의 용융 실리카 기판
- 원형/직사각형 형태로 영국식 표준 규격에 맞게 제공 가능
- Window Substrate 보유


- Ideal for Redirecting Light in One Axis
- Hollow Design Minimizes Dispersion
- Replaces Solid Roof or Porro Prisms in Optical Assemblies


- Stemmed Design으로 설계되어 스템으로 장착 시 미러 표면의 응력 감소
- 견고한 용융 실리카 소재로 제조되어 낮은 열팽창 계수 제공
- 강화 알루미늄, 보호 골드, 보호 실버 코팅
- TECHSPEC® Laser 및 Broadband Dielectric Stemmed Mirrors 또한 이용 가능


- Stemmed Design으로 설계되어 스템으로 장착 시 미러 표면의 응력 감소
- 표준 레이저 파장에서 99%가 넘는 반사율
- 10-5 표면 품질도로 민감한 레이저 용도에서 산란 감소
- TECHSPEC® Broadband Dielectric 및 Metallic Coated Stemmed Mirrors 또한 이용 가능


- Stemmed Design으로 설계되어 스템으로 장착 시 미러 표면의 응력 감소
- 광대역 파장 대역에서 99%가 넘는 평균 반사율
- 20-10 표면 품질도 및 0 - 45° 입사각
- TECHSPEC® Laser 및 Metallic Coated Stemmed Mirrors 또한 이용 가능


- λ/20의 표면 정밀도
- 비코팅 또는 다양한 Nd:YAG 레이저 코팅 옵션 이용 가능
- 기하학적 허용 오차의 간섭도와 측정 결과 값이 포함된 풀 데이터 패키지


- 우수한 UV 투과성
- 낮은 열팽창 계수
- 정밀 디자인

- 반사 손실을 최소화하기 위해 Brewster’s Angle에 맞춰 연마
- Intracavity를 사용해 분산 보정
- Extracavity를 사용해 펄스 특성 조절

- 240 - 400nm에서 높은 투과율
- 균일한 휘도 및 대비
- UV 또는 DUV 용도에 적합
- Visible 및 Infrared (IR) Wire Grid Polarizers 또한 이용 가능

- 5° AOI에서 500 fs2의 양수 GDD
- 99.9%가 넘는 최소 반사율 (P-편광)
- 2800 – 3600nm를 커버하는 광대역 중파적외선(Mid-IR) 코팅 디자인
- 중파적외선 모드 잠금 레이저에 적합

- 2000 - 2200nm 구간에서 99.9%가 넘는 반사율
- 5° AOI에서 -1000fs2의 GDD
- 툴륨 및 홀뮴 레이저의 펄스를 100fs 미만으로 압축하는 데 적합
- 극초단 초고속 처프 코팅(Chirped Coating)

- 비가우시안(Non-Gaussian) 라인 패턴 생성
- 빛을 균질화하는 용도에 적합
- 193nm - 2.5μm에서 탁월한 성능 발휘

- 25 and 125° Diffusing Angles Available
- 90% Transmission Efficiency
- Eye-Safe ROE, No Zero-Order and No Hot Spot

- 비대칭 설계를 적용해 정밀한 포커싱이 가능하고 스폿 크기가 작음
- 비코팅 용융 실리카 기판을 사용하며 표면 품질은 10-5
- 고출력 레이저 용도에 적합

- 193nm에서부터 중심 파장
- 보호용 오버코트를 입힌 First Surface Bandpass Coating
- UV 용융 실리카 기판

- 0.05°의 꼭지각(Apex Angle) 허용오차
- 가우시안 빔을 베셀 빔으로 전환
- Gaussian Beam을 Bessel Beam으로 전환
- 빔 쉐이핑 용도에 사용 가능한 Plano-Convex (PCX) Ring Grade Axicons
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