Yb-Doped Dichroic Mirrors
신제품
- High Reflectivity at 1030nm and High Transmission at 940nm
- Low Group Delay Dispersion (GDD) <±100fs2
- Dichroic Mirror Ideal for Ytterbium (Yb) Lasers
PeakPower High LDT Low GDD Ultrafast Mirrors
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- 920nm에서 25fs의 펄스 지속 시간 동안 0.75J/cm2를 초과하는 높은 펨토초 손상 임계값
- 0에 근접한 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)와 99.5% 이상의 반사율
- 고급 펨토초 레이저 어플리케이션에 적합
920nm Laser Line Mirrors
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- >99.8% Absolute Reflectivity at 920nm
- 99.5% Average Reflectivity in the 905 - 935nm Range
- High Laser Damage Threshold
- Wide Range of Laser Line Mirrors Options Available
1310nm Laser Line Mirrors
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- >99.8% Reflectivity at 1310nm
- 99.5% Average Reflectivity in the 1295 - 1325nm Range
- High Laser Damage Threshold
- Wide Range of Laser Line Mirrors Options Available
2μm Laser Line Mirrors
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- >99.8% Reflectivity at 2µm
- 99.5% Average Reflectivity in the 1900 - 2200nm Range
- High Laser Damage Threshold
- Wide Range of Laser Line Mirrors Options Available
Nd:YAG ZERODUR Laser Line Mirrors
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- 열팽창이 거의 없는 ZERODUR® 기판
- Nd:YAG 고조파 주파수에서의 반사율 >99.5%
- 레이저 손상 임계값(LDT)이 높음
Yb:YAG ZERODUR Laser Line Mirrors
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- ZERODUR® Substrates Provide Near Zero Thermal Expansion
- >99.8% Reflectivity at Yb:YAG Harmonic Frequencies
- High Laser Damage Threshold Specifications
Stemmed Laser Mirrors
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- Stemmed Design으로 설계되어 스템으로 장착 시 미러 표면의 응력 감소
- 표준 레이저 파장에서 99%가 넘는 반사율
- 10-5 표면 품질도로 민감한 레이저 용도에서 산란 감소
- TECHSPEC® Broadband Dielectric 및 Metallic Coated Stemmed Mirrors 또한 이용 가능
Nd:YAG Laser Replacement Parts
- Output Coupler, Laser Line Mirror, Nd:YAG Rod
- 1064nm에서 반사율이 80% 또는 90%인 Output Coupler
- 0.6%의 Nd Dopant Nd:YAG Rod
- 대체품으로 다양한 종류의 Nd:YAG Laser Optics 이용 가능
Low Cost Nd:YAG Multi-Line Mirrors
- Nd:YAG 고조파 파장
- 266, 355, 532, 1064nm에서 97%가 넘는 반사율
- 뛰어난 가성비
- Nd:YAG Laser Line Mirrors 및 Low Cost Laser Line Mirrors 또한 이용 가능
UltraFast Innovations (UFI) Third Order Dispersion (TOD) Ultrafast Mirrors
- 7° AOI에서 최대 -2500fs3의 높은 음수치를 갖는 3차수 분산(TOD)
- 추가 GDD를 유도하지 않고도 3차수 분산(TOD)을 보정하는 데 적합
- 0fs2의 낮은 군지연분산(GDD)
- II-VI LightSmyth™ Transmission Diffraction Gratings 또한 이용 가능
UltraFast Innovations (UFI) 3200nm Highly-Positive Dispersive Ultrafast Mirrors
- 5° AOI에서 500 fs2의 양수 GDD
- 99.9%가 넘는 최소 반사율 (P-편광)
- 2800 – 3600nm를 커버하는 광대역 중파적외선(Mid-IR) 코팅 디자인
- 중파적외선 모드 잠금 레이저에 적합
UltraFast Innovations (UFI) 1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors with Reduced Thermal Lensing
- 열렌즈 효과를 감소시키는 극초단 고분산 코팅
- 5° AOI에서 최대 -1000 fs2의 높은 수치를 갖는 음수 GDD
- 50nm 대역폭에서 99.5%가 넘는 최소 반사율 (P-편광)
- 고출력 극초단 레이저 펄스 생성에 적합
UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors
- -145 fs2의 음수 GDD
- 255 - 277nm 사이에서 5°의 입사각(AOI)
- UV 극초단 레이저 빔의 펄스 압축 및 분산 보정 용도에 적합
- UV 음의 분산을 위한 독특한 설계 방식의 극초단 코팅
UltraFast Innovations (UFI) Positive Dispersion Ultrafast Mirrors
- 5° AOI에서 최대 100fs2의 양수 GDD
- S 및 P 편광의 경우 99.5%가 넘는 높은 반사율
- 700 - 1100nm의 광대역 성능
- Ultrafast Dispersion-Compensating Prisms 또한 이용 가능
UltraFast Innovations (UFI) High-Power Low-Loss Laser Mirrors
- 1030nm 및 1064nm에서 99.99%가 넘는 반사율
- 1064nm, 100Hz, 8ns에서 50 J/cm2의 레이저 손상 임계치
- 나노초, 피코초, 펨토초 레이저 펄스를 위한 범용 설계
- 맞춤 제작 옵션은 최대 200mm 직경까지 적용 가능
Nd:YAG Laser Output Couplers
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- 532nm 및 1064nm Nd:YAG 레이저용으로 설계
- Nd:YAG DWL에서 80%의 반사율
- UV 용융 실리카 기판
High-Energy Picosecond and Femtosecond Ultrafast Mirrors
신제품
- 설계파장(DWL)에서 높은 수치의 LIDT 제공
- S 및 P 편광에 대한 높은 반사율
- 고에너지 극초단 레이저 용도에 안성맞춤
- TECHSPEC® High-Performance Low GDD Ultrafast Mirrors 또한 이용 가능
45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors
- 높은 반사율과 음의 Group Delay Dispersion (GDD)
- 45° 입사각에서의 분산 보정 및 빔 압축에 적합
- Ti:sapphire 등의 Femtosecond Laser를 위한 디자인
IBS Laser Line Mirrors
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- 저손실 및 고반사율을 위한 IBS 미러 코팅
- 1064nm, DWL에서 최대 15 J/cm2의 높은 Laser Damage Threshold 보장
- Parts per Million 수준의 산란 성능을 제공하기 위해 초미세 연마된 기판
- 기타 크기 제품 곧 출시
Yb:YAG Laser Line Mirrors
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- Yb:YAG 고조파 주파수에서의 반사율 >99.8%
- 높은 레이저 손상 임계값(LDT) 보장
- 표면 품질: 10-5, 레이저 어플리케이션에 사용할 경우 산란 감소
- TECHSPEC® Laser Mirror Substrate 및 TECHSPEC® Nd:YAG Laser Line Mirror 보유
Nd:YAG Laser Line Mirrors
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Top Seller
- Nd:YAG Harmonic Frequency에서 99.2%가 넘는 반사율
- Laser Induced Damage Threshold가 높은 제품 사양
- 10-5의 표면 품질도로 민감한 레이저 용도에서 산란 감소
- TECHSPEC® Laser Mirror Substrates 및 TECHSPEC® Yb:YAG Laser Line Mirrors 또한 이용 가능
Low GDD Ultrafast Mirrors
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- 극초단 빔 조정을 위해 높은 반사율을 제공하도록 설계
- Ion-Beam Sputtered Coating으로 산란과 흡수가 낮음
- 설계 파장에서 0fs2에 근접한 GDD 제공
Dual Band Low GDD Ultrafast Mirrors
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- 반사율이 높고 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 낮아 극초단 빔 조향에 적합
- IBS 코팅으로 산란 및 흡수 손실 최소화
- Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저의 1차 고조파와 2차 고조파 모두에서 GDD가 0에 근접
800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
- 780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
- 5° AOI에서 -1300fs2의 Group Delay Dispersion
- Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
- 초고속 처프(Chirped) 코팅
1030nm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors
- 5° AOI에서 -200 fs2의 Negative GDD
- 950 - 1120nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
- Yb:doped Fiber Laser의 펄스 압축용으로 설계
- 광대역 초고속 처프(Chirped) 코팅
1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
- 7° AOI에서 최대 -1000 fs2의 Highly Negative GDD
- 60nm 밴드폭에 걸쳐 99.8%가 넘는 최소 반사율(p-편광)
- Yb:doped Fiber Laser의 분산 보정에 적합
- 초고속 처프(Chirped) 코팅
Low Cost Laser Line Mirrors
신제품
- 설계 파장에서 99%가 넘는 반사율
- λ/10의 표면 정밀도
- 우수한 가성비
- Nd:YAG, Yb:YAG 및 다이오드 레이저용으로 설계
Fiber Laser Mirrors
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- 일반적인 Fiber 레이저를 위한 설계
- 1030nm - 1090nm에서 99.2% 이상의 반사율
- 높은 Damage Thresholds
Excimer Laser Line Mirrors
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- 1.5J/cm2의 높은 Damage Threshold
- 손실이 낮은 유전체 코팅
- 193nm 및 248nm의 레이저용으로 설계
Laser Line λ/20 High Tolerance Right Angle Mirrors
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- 설계 파장에서 99.5%가 넘는 반사율
- ±15 Arcsecond의 각도 허용 오차
- 열적 안정성이 높은 기판
Diode Laser Line Mirrors
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- 설계 파장에서의 반사율 99.8% 이상
- 파장 범위에서의 탁월한 광대역 성능
- Common Diode Lasers용으로 설계됨
2μm Laser Line Mirrors
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- 2µm, 10ns, 10Hz에서 10 J/cm2가 넘는 Laser Damage Threshold
- 홀뮴과 툴륨 레이저 광원을 위해 설계됨
- λ/7의 표면 정밀도
2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors
- 2000 - 2200nm 구간에서 99.9%가 넘는 반사율
- 5° AOI에서 -1000fs2의 GDD
- 툴륨 및 홀뮴 레이저의 펄스를 100fs 미만으로 압축하는 데 적합
- 극초단 초고속 처프 코팅(Chirped Coating)
Laser Line Concave Mirrors
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- 레이저 광 포커싱에 적합
- 중심 파장에서 99.8%가 넘는 반사율
- 열적 안정성이 높은 용융 실리카 기판
Dual Band Laser Line Mirrors
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- 설계 파장에서 99%가 넘는 반사율
- 표면 품질: 10-5, 감도가 높아야 하는 레이저 어플리케이션에 적합
- 파장 대역: 532nm/1064nm, 635-670nm/1064nm, 800nm/1030nm
- TECHSPEC® Nd:YAG Laser Line Mirror 보유
Ultra-High Reflectivity (UHR) Broadband Dielectric Mirrors
재고정리
- VIS 또는 NIR 파장 범위에 걸쳐 99.8%가 넘는 반사율 제공
- 10-5의 표면 품질도로 민감도가 높은 레이저 용도에서 산란 감소
- λ/10의 표면 평탄도
Low GDD Dielectric Ultrafast Laser Mirrors
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- 설계 파장 대역에서 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 ±20fs2로 낮음
- 반사율이 99.9% 이상
- Ti:Sapphire 및 Yb:doped 극초단 레이저에 적합
Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirrors
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- 600 – 1000nm 혹은 800 – 1150nm에서 반사율이 99% 이상
- GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 0±20fs2로 낮음
- Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저에 적합
- 영국식 표준 규격에 맞게 제공 가능
- TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirror 보유
Polarization Maintaining Mirrors
TECHSPEC® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기
- Preserves Incident Circular Polarization at 45° AOI
- Up To 99.9% Reflection at 532 or 1064nm, and 80% at 650nm for Alignment
- 12.7, 25.4, and 50.8mm Designs Available
Dual Band Zerodur® Laser Line Mirrors
TECHSPEC® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기
- 설계 파장에서 99.5%가 넘는 반사율
- 열팽창 계수가 낮음
- 파장 대역: 532nm/1064nm, 635nm/670nm/1064nm
755nm Alexandrite Laser Mirrors
TECHSPEC® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기
- >99.5% Reflectivity at 755nm and >90% Reflectivity at 625 – 650nm
- 10-5 Surface Quality and λ/10 Surface Flatness
- Ideal for use in Dermatological Applications
Ti:Sapphire Laser Line Mirrors
신제품
- >99.8% Reflectivity at Ti:Sapphire Fundamental and Harmonic Frequencies
- 10-5 Surface Quality for Reduced Scatter in Laser Applications
- High Laser Damage Threshold
Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors
- 13.5nm에서 최대 반사율 달성
- EUV 빔 조정 및 고조파 분리용으로 설계
- 5° 및 45° AOI 버전으로 제공
UltraFast Innovations (UFI) EUV Attosecond Multilayer Mirrors
- 65eV (19nm)에서 아토초 펄스용으로 설계
- 다중 코팅으로 38%의 최대 반사율 달성
- 초미세 연마된 기판으로 1Å 이하의 표면 거칠기 제공
- 13.5nm에서 설계된 EUV Flat Mirrors 및 EUV Spherical Mirrors 또한 이용 가능
혹은 지사별 연락처 확인
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