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    Design Wavelength DWL (nm)
    Wavelength Range (nm)
    Substrate
    Angle of Incidence (°)
    Diameter (mm)
    to
    Reflection at DWL (%)
    Expansion Power

    Laser Line Mirrors

    Laser Mirror는 beam steering 또는 beam folding과 같은 laser 용도에서 laser를 반사하거나 굴절시키는 데 사용됩니다. Laser Mirror는 다양한 substrate, 코팅 또는 두 가지의 조합을 이용해 특정 파장 또는 파장 범위에서 높은 반사율을 갖도록 설계되어 있습니다. Laser Mirror는 특정 영역에 맞게 beam을 여러 번에 걸쳐 정확하게 반사시킬 수 있기 때문에 공간적 제약이 있는 laser 용도에 적합합니다.

    Edmund Optics는 beam steering 또는 beam 조작 필요성에 맞춰 다양한 유형의 Laser Mirror를 공급합니다. Laser Line Mirror는 아주 좁은 파장 범위에 걸쳐 반사하도록 설계되었습니다. High Damage Mirror는 내구성이 탁월한 mirror로서 high damage threshold를 갖고 있습니다. 자주 사용되는 laser 파장 범위에 다양한 Laser Mirror를 선택해 이용할 수 있습니다.

    IBS Laser Line Mirrors
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    신제품
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    IBS Laser Line Mirrors
    • 저손실 및 고반사율을 위한 IBS 미러 코팅
    • 1064nm, DWL에서 최대 15 J/cm2의 높은 Laser Damage Threshold 보장
    • Parts per Million 수준의 산란 성능을 제공하기 위해 초미세 연마된 기판
    • 기업내 제조 설비 보유로 맞춤형 치수 또는 코팅 사양 제작 가능
    45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors 신제품
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    45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors
    • 높은 반사율과 음의 Group Delay Dispersion (GDD)
    • 45° 입사각에서의 분산 보정 및 빔 압축에 적합
    • Ti:sapphire 등의 Femtosecond Laser를 위한 디자인
    Nd:YAG Laser Line Mirrors
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    Nd:YAG Laser Line Mirrors
    Yb:YAG Laser Line Mirrors
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    Yb:YAG Laser Line Mirrors
    Laser Line Mirrors
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    Laser Line Mirrors
    • Laser Damage Threshold 보장
    • UV 용융 실리카 재질의 기판으로 열적 안정성 및 시간적 안정성이 우수함
    • 설계 파장에서 99%가 넘는 반사율
    • 흡수가 낮은 Ion Beam Sputtered (IBS) 옵션 이용 가능
    Low GDD Ultrafast Mirrors
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    Low GDD Ultrafast Mirrors
    • 초고속 빔 조정을 위해 높은 반사율을 제공하도록 설계
    • Ion-Beam Sputtered Coating으로 산란과 흡수가 낮음
    • 설계 파장 범위에서 0±20fs2의 GDD 보유
    800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors 신제품
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    800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
    • 780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
    • 5° AOI에서 -1300fs2의 Group Delay Dispersion
    • Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
    • 초고속 처프(Chirped) 코팅
    1030nm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors 신제품
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    1030nm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors
    • 5° AOI에서 -200 fs2의 Negative GDD
    • 950 - 1120nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
    • Yb:doped Fiber Laser의 펄스 압축용으로 설계
    • 광대역 초고속 처프(Chirped) 코팅
    1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors 신제품
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    1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
    • 7° AOI에서 최대 -1000 fs2의 Highly Negative GDD
    • 60nm 밴드폭에 걸쳐 99.8%가 넘는 최소 반사율(p-편광)
    • Yb:doped Fiber Laser의 분산 보정에 적합
    • 초고속 처프(Chirped) 코팅
    Low Cost Laser Line Mirrors
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    Low Cost Laser Line Mirrors
    • 설계 파장에서 99%가 넘는 반사율
    • λ/10의 표면 정밀도
    • 우수한 가성비
    Fiber Laser Mirrors
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    Fiber Laser Mirrors
    • 일반적인 Fiber 레이저를 위한 설계
    • 1030nm - 1090nm에서 99.2% 이상의 반사율
    • 높은 Damage Thresholds
    Argon-Ion Laser Line Mirrors
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    Argon-Ion Laser Line Mirrors
    • 낮은 손실의 Dielectric Coatings
    • 98% 이상의 반사율
    • 모든 일반적인 Argon-Ion Laser 파장
    Excimer Laser Line Mirrors
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    Excimer Laser Line Mirrors
    • 1.5J/cm2의 높은 Damage Threshold
    • 손실이 낮은 유전체 코팅
    • 193nm 및 248nm의 레이저용으로 설계됨
    Gaussian Reflectivity Mirrors 신제품
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    Gaussian Reflectivity Mirrors
    • Laser Cavity 내부에서 반사를 위한 기본 모드 제공
    • 4mm의 중앙 구경에서 가우시안 반사 프로파일 생성
    • 15%부터 최대 35%의 중앙 반사율
    Laser Line λ/20 High Tolerance Right Angle Mirrors
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    Laser Line λ/20 High Tolerance Right Angle Mirrors
    • 설계 파장에서 99.5%가 넘는 반사율
    • ±15 Arcsecond의 각도 허용 오차
    • 열적 안정성이 높은 기판
    Diode Laser Line Mirrors
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    Diode Laser Line Mirrors
    • 설계 파장에서의 반사율 99.8% 이상
    • 파장 범위에서의 탁월한 광대역 성능
    • Common Diode Lasers용으로 설계됨
    Ultrafast Laser Line Mirrors
    Ultrafast Laser Line Mirrors
    • 99% 이상의 반사율
    • 266nm - 1550nm의 옵션 이용 가능
    • 낮은 Low Group Delay Dispersion (GDD)
    Nd:YAG Laser Line Mirror Kits
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    Nd:YAG Laser Line Mirror Kits
    • Kits Include Six Mirrors for the Nd:YAG Harmonics and Dual Band Mirrors
    • Greater than 99% Absolute Reflectivity at Design Wavelength
    • High Damage Thresholds
    • Nd:YAG Laser Line Mirrors are Also Available Individually
    2μm Laser Line Mirrors
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    2μm Laser Line Mirrors
    • 2µm, 10ns, 10Hz에서 10 J/cm2가 넘는 Laser Damage Threshold
    • 홀뮴과 툴륨 레이저 광원을 위해 설계됨
    • λ/7의 표면 정밀도
    2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors 신제품
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    2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors
    • 2000 - 2200nm 구간에서 99.9%가 넘는 반사율
    • 5° AOI에서 -1000fs2의 GDD
    • 툴륨 및 홀뮴 레이저의 펄스를 100fs 미만으로 압축하는 데 적합
    • 광대역 초고속 처프 코팅(Chirped Coating)
    Laser Line Concave Mirrors
    TECHSPEC® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기
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    Laser Line Concave Mirrors
    • 레이저 광 포커싱에 적합
    • 중심 파장에서 99.8%가 넘는 반사율
    • 열적 안정성이 높은 용융 실리카 기판

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