Laser Line Mirrors

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신제품 IBS Laser Line Mirrors

저손실 및 고반사율을 위한 IBS 미러 코팅
1064nm, DWL에서 최대 15 J/cm²의 높은 Laser Damage Threshold 보장
Parts per Million 수준의 산란 성능을 제공하기 위해 초미세 연마된 기판
기업내 제조 설비 보유로 맞춤형 치수 또는 코팅 사양 제작 가능

신제품 45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors

높은 반사율과 음의 Group Delay Dispersion (GDD)
45° 입사각에서의 분산 보정 및 빔 압축에 적합
Ti:sapphire 등의 Femtosecond Laser를 위한 디자인

신제품 High-Energy Picosecond and Femtosecond Ultrafast Mirrors

DWL에서 높은 LIDT
S 및 P 편광에 대한 높은 반사율
고에너지 극초단 레이저 애플리케이션에 이상적
TECHSPEC® 고성능 저 GDD 극초단 미러 사용 가능

신제품 Low GDD Ultrafast Mirrors

99% 이상의 반사율
코팅 설계 266 - 1550nm
낮은 그룹 지연 분산(GDD)
TECHSPEC® 고성능 저 GDD 극초단 미러 사용 가능

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Nd:YAG Laser Line Mirrors

Nd:YAG Harmonic Frequency에서 99.2%가 넘는 반사율
Laser Induced Damage Threshold가 높은 제품 사양
10-5의 표면 품질도로 민감한 레이저 용도에서 산란 감소
TECHSPEC® Laser Mirror Substrates 및 TECHSPEC® Yb:YAG Laser Line Mirrors 또한 이용 가능

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Yb:YAG Laser Line Mirrors

Nd:YAG Harmonic Frequency에서 99.8%가 넘는 반사율
높은 Laser Damage Threshold 보장
10-5의 표면 품질도로 민감한 레이저 용도에서 산란 감소
TECHSPEC® Laser Mirror Substrates 및 TECHSPEC® Nd:YAG Laser Line Mirrors 또한 이용 가능

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Laser Line Mirrors

Laser Damage Threshold 보장
UV 용융 실리카 재질의 기판으로 열적 안정성 및 시간적 안정성이 우수함
설계 파장에서 99%가 넘는 반사율
흡수가 낮은 Ion Beam Sputtered (IBS) 옵션 이용 가능

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신제품 Low GDD Ultrafast Mirrors

초고속 빔 조정을 위해 높은 반사율을 제공하도록 설계
Ion-Beam Sputtered Coating으로 산란과 흡수가 낮음
설계 파장 범위에서 0±20fs²의 GDD 보유

신제품 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
5° AOI에서 -1300fs²의 Group Delay Dispersion
Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
초고속 처프(Chirped) 코팅

신제품 1030nm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors

5° AOI에서 -200 fs²의 Negative GDD
950 - 1120nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
Yb:doped Fiber Laser의 펄스 압축용으로 설계
광대역 초고속 처프(Chirped) 코팅

신제품 1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

7° AOI에서 최대 -1000 fs²의 Highly Negative GDD
60nm 밴드폭에 걸쳐 99.8%가 넘는 최소 반사율(p-편광)
Yb:doped Fiber Laser의 분산 보정에 적합
초고속 처프(Chirped) 코팅

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신제품 Low Cost Laser Line Mirrors

설계 파장에서 99%가 넘는 반사율
λ/10의 표면 정밀도
우수한 가성비

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Fiber Laser Mirrors

일반적인 Fiber 레이저를 위한 설계
1030nm - 1090nm에서 99.2% 이상의 반사율
높은 Damage Thresholds

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Argon-Ion Laser Line Mirrors

낮은 손실의 Dielectric Coatings
98% 이상의 반사율
모든 일반적인 Argon-Ion Laser 파장

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Excimer Laser Line Mirrors

1.5J/cm²의 높은 Damage Threshold
손실이 낮은 유전체 코팅
193nm 및 248nm의 레이저용으로 설계됨

신제품 Gaussian Reflectivity Mirrors

Laser Cavity 내부에서 반사를 위한 기본 모드 제공
4mm의 중앙 구경에서 가우시안 반사 프로파일 생성
15%부터 최대 35%의 중앙 반사율

Laser Line λ/20 High Tolerance Right Angle Mirrors

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신제품 Laser Line λ/20 High Tolerance Right Angle Mirrors

설계 파장에서 99.5%가 넘는 반사율
±15 Arcsecond의 각도 허용 오차
열적 안정성이 높은 기판

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Diode Laser Line Mirrors

설계 파장에서의 반사율 99.8% 이상
파장 범위에서의 탁월한 광대역 성능
Common Diode Lasers용으로 설계됨

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신제품 2μm Laser Line Mirrors

2µm, 10ns, 10Hz에서 10 J/cm²가 넘는 Laser Damage Threshold
홀뮴과 툴륨 레이저 광원을 위해 설계됨
λ/7의 표면 정밀도

신제품 2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors

2000 - 2200nm 구간에서 99.9%가 넘는 반사율
5° AOI에서 -1000fs²의 GDD
툴륨 및 홀뮴 레이저의 펄스를 100fs 미만으로 압축하는 데 적합
광대역 초고속 처프 코팅(Chirped Coating)

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신제품 Laser Line Concave Mirrors

레이저 광 포커싱에 적합
중심 파장에서 99.8%가 넘는 반사율
열적 안정성이 높은 용융 실리카 기판

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Laser Mirror는 beam steering 또는 beam folding과 같은 laser 용도에서 laser를 반사하거나 굴절시키는 데 사용됩니다. Laser Mirror는 다양한 substrate, 코팅 또는 두 가지의 조합을 이용해 특정 파장 또는 파장 범위에서 높은 반사율을 갖도록 설계되어 있습니다. Laser Mirror는 특정 영역에 맞게 beam을 여러 번에 걸쳐 정확하게 반사시킬 수 있기 때문에 공간적 제약이 있는 laser 용도에 적합합니다.

Edmund Optics는 beam steering 또는 beam 조작 필요성에 맞춰 다양한 유형의 Laser Mirror를 공급합니다. Laser Line Mirror는 아주 좁은 파장 범위에 걸쳐 반사하도록 설계되었습니다. High Damage Mirror는 내구성이 탁월한 mirror로서 high damage threshold를 갖고 있습니다. 자주 사용되는 laser 파장 범위에 다양한 Laser Mirror를 선택해 이용할 수 있습니다.