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1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

  • 7° AOI에서 최대 -1000 fs2의 Highly Negative GDD
  • 60nm 밴드폭에 걸쳐 99.8%가 넘는 최소 반사율(p-편광)
  • Yb:doped Fiber Laser의 분산 보정에 적합
  • 초고속 처프(Chirped) 코팅
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1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors는 최적화된 멀티레이어 코팅 구조로 인해 매우 낮은 GDD를 제공하고 60nm 밴드폭에서 높은 반사율을 특징으로 합니다. 이 미러는 분산형 광학적 간섭 기반의 코팅 처리가 되어 5° 또는 7°의 설계 입사각에서 매우 높은 음수 값인 -500fs2 또는 -1000fs2의 GDD를 제공합니다. 일반적으로 설계 파장에서 반사율이 99.9%를 초과하며 밴드폭에서는 최소 반사율이 99.8%에 달합니다. 1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors는 NIR 스펙트럼의 기타 초고속 레이저 뿐만 아니라 Yb:doped fiber laser의 펄스 압축과 분산 보정용으로 사용하기 적합합니다. 영국식 표준 규격인 ½” 또는 1” (12.7mm 또는 25.4mm)로 제공됩니다. 고객의 레이저 시스템에 적합한 기타 맞춤형 크기나 파장, 초단 펄스(ultrashort pulse)를 원할 경우 당사로 문의 주시면 고객의 어플리케이션에 가장 적합한 솔루션을 함께 모색해 드립니다.

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