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신제품 UltraFast Innovations (UFI) EUV Attosecond Multilayer Mirrors

65eV (19nm)에서 아토초 펄스용으로 설계
다중 코팅으로 38%의 최대 반사율 달성
초미세 연마된 기판으로 1Å 이하의 표면 거칠기 제공
13.5nm에서 설계된 EUV Flat Mirrors 및 EUV Spherical Mirrors 또한 이용 가능

신제품 UltraFast Innovations (UFI) Third Order Dispersion (TOD) Ultrafast Mirrors

7° AOI에서 최대 -2500fs³의 높은 음수치를 갖는 3차수 분산(TOD)
추가 GDD를 유도하지 않고도 3차수 분산(TOD)을 보정하는 데 적합
0fs²의 낮은 군지연분산(GDD)
II-VI LightSmyth™ Transmission Diffraction Gratings 또한 이용 가능

신제품 UltraFast Innovations (UFI) 3200nm Highly-Positive Dispersive Ultrafast Mirrors

5° AOI에서 500 fs²의 양수 GDD
99.9%가 넘는 최소 반사율 (P-편광)
2800 – 3600nm를 커버하는 광대역 중파적외선(Mid-IR) 코팅 디자인
중파적외선 모드 잠금 레이저에 적합

신제품 UltraFast Innovations (UFI) 1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors with Reduced Thermal Lensing

열렌즈 효과를 감소시키는 극초단 고분산 코팅
5° AOI에서 최대 -1000 fs²의 높은 수치를 갖는 음수 GDD
50nm 대역폭에서 99.5%가 넘는 최소 반사율 (P-편광)
고출력 극초단 레이저 펄스 생성에 적합

신제품 UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors

-145 fs²의 음수 GDD
255 - 277nm 사이에서 5°의 입사각(AOI)
UV 극초단 레이저 빔의 펄스 압축 및 분산 보정 용도에 적합
UV 음의 분산을 위한 독특한 설계 방식의 극초단 코팅

신제품 UltraFast Innovations (UFI) Positive Dispersion Ultrafast Mirrors

5° AOI에서 최대 100fs²의 양수 GDD
S 및 P 편광의 경우 99.5%가 넘는 높은 반사율
700 - 1100nm의 광대역 성능
Ultrafast Dispersion-Compensating Prisms 또한 이용 가능

Ultrafast-Enhanced Silver Coated Off-Axis Parabolic (OAP) Mirrors

TECHSPEC^® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기

신제품 Ultrafast-Enhanced Silver Coated Off-Axis Parabolic (OAP) Mirrors

Ti:sapphire 및 Yb:doped 레이저용 극초단 강화 실버 코팅
600 - 1050nm에서 0 ±20fs²의 낮은 군지연분산(GDD)
50Å RMS 미만의 낮은 거칠기로 산란 최소화

신제품 Low GDD Ultrafast Mirrors

99%가 넘는 반사율
360 - 3300nm를 커버하는 코팅 설계
낮은 군지연 분산(GDD)
TECHSPEC® High-Performance Low GDD Ultrafast Mirrors 또한 이용 가능

신제품 High-Energy Picosecond and Femtosecond Ultrafast Mirrors

설계파장(DWL)에서 높은 수치의 LIDT 제공
S 및 P 편광에 대한 높은 반사율
고에너지 극초단 레이저 용도에 안성맞춤
TECHSPEC® High-Performance Low GDD Ultrafast Mirrors 또한 이용 가능

TECHSPEC^® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기

신제품 Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirrors

600 - 1000nm 범위에서 99%가 넘는 반사율
±20fs²의 낮은 Group Delay Dispersion
Ti:Sapphire 레이저에 사용하기 적합
영국식 표준 규격으로 제공

TECHSPEC^® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기

신제품 Low GDD Ultrafast Mirrors

극초단 빔 조정을 위해 높은 반사율을 제공하도록 설계
Ion-Beam Sputtered Coating으로 산란과 흡수가 낮음
설계 파장에서 0fs²에 근접한 GDD 제공

TECHSPEC^® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기

신제품 Dual Band Low GDD Ultrafast Mirrors

고반사율 및 낮은 수치의 GDD로 극초단 빔 조정에 적합
산란 및 흡수 손실을 최소화하는 이온빔 스퍼터링 코팅
설계 파장 전체 범위에서 0에 근접한 군지연분산(GDD) 제공

신제품 45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors

높은 반사율과 음의 Group Delay Dispersion (GDD)
45° 입사각에서의 분산 보정 및 빔 압축에 적합
Ti:sapphire 등의 Femtosecond Laser를 위한 디자인

신제품 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
5° AOI에서 -1300fs²의 Group Delay Dispersion
Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
초고속 처프(Chirped) 코팅

신제품 1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

7° AOI에서 최대 -1000 fs²의 Highly Negative GDD
60nm 밴드폭에 걸쳐 99.8%가 넘는 최소 반사율(p-편광)
Yb:doped Fiber Laser의 분산 보정에 적합
초고속 처프(Chirped) 코팅

신제품 1030nm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors

5° AOI에서 -200 fs²의 Negative GDD
950 - 1120nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
Yb:doped Fiber Laser의 펄스 압축용으로 설계
광대역 초고속 처프(Chirped) 코팅

신제품 UltraFast Innovations (UFI) High-Power Low-Loss Laser Mirrors

1030nm 및 1064nm에서 99.99%가 넘는 반사율
1064nm, 100Hz, 8ns에서 50 J/cm²의 레이저 손상 임계치
나노초, 피코초, 펨토초 레이저 펄스를 위한 범용 설계
맞춤 제작 옵션은 최대 200mm 직경까지 적용 가능

신제품 2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors

2000 - 2200nm 구간에서 99.9%가 넘는 반사율
5° AOI에서 -1000fs²의 GDD
툴륨 및 홀뮴 레이저의 펄스를 100fs 미만으로 압축하는 데 적합
극초단 초고속 처프 코팅(Chirped Coating)

Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirrors

TECHSPEC^® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기

신제품 Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirrors

Ti:sapphire 및 Yb:doped 레이저 펄스 포커싱에 적합
600 - 1000nm 구간에서 99%가 넘는 반사율
0±20fs²의 낮은 군지연 분산(GDD)
25 - 500mm의 유효 초점 거리

Ultrafast Laser Mirrors 관련 자료 전체 보기

Ultrafast Laser Mirror (초고속 레이저 미러)는 ultrashort laser pulse에 대하여 99% 이상의 높은 반사율과 high laser induced damage threshold를 유지하도록 설계되었습니다. 이 미러는 지정된 파장 범위에서 Group Delay Dispersion (GDD) 및 Group Velocity Dispersion (GVD)을 최소화하여, 분산으로 인한 시간적 확장 및 압축의 효과를 없애줍니다. 최소치의 GDD와 GVD 값은 고반사성과 낮은 GDD를 동시에 결합해주는 겹겹의 코팅을 신중히 선택하면서 이루어집니다. 초고속 레이저 미러는 재료 가공, 분광학 및 생체 의학과 같은 다양한 응용 분야에 사용됩니다. 에드몬드 옵틱스에서는 고객의 특정 어플리케이션에 적합하도록 광범위한 파장 및 입사각 옵션을 제공합니다.

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