- 1030nm에서 반사율 높음, 940nm에서 투과율 높음
- GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 ±100fs2 미만으로 낮음
- Yb 레이저에 적합한 다이크로익 미러
- 920nm에서 25fs의 펄스 지속 시간 동안 0.75J/cm2를 초과하는 높은 펨토초 손상 임계값
- 0에 근접한 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)와 99.5% 이상의 반사율
- 고급 펨토초 레이저 어플리케이션에 적합
- 설계 파장 대역에서 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 ±20fs2로 낮음
- 반사율이 99.9% 이상
- Ti:Sapphire 및 Yb:doped 극초단 레이저에 적합
- 극초단 빔 조정을 위해 높은 반사율을 제공하도록 설계
- Ion-Beam Sputtered Coating으로 산란과 흡수가 낮음
- 설계 파장에서 0fs2에 근접한 GDD 제공
- 반사율이 높고 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 낮아 극초단 빔 조향에 적합
- IBS 코팅으로 산란 및 흡수 손실 최소화
- Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저의 1차 고조파와 2차 고조파 모두에서 GDD가 0에 근접
- 600 – 1000nm 혹은 800 – 1150nm에서 반사율이 99% 이상
- GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 0±20fs2로 낮음
- Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저에 적합
- 영국식 표준 규격에 맞게 제공 가능
- TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirror 보유
- 65eV(19nm) 기준 330 아토초 펄스를 위한 설계
- 피크 반사율이 38%인 다층 코팅
- 초미세 연마로 1Å 미만의 RMS 표면 거칠기를 구현한 기판
- 13.5nm을 사용하도록 설계된 EUV Flat Mirror 및 EUV Spherical Mirror 보유
- 최소 주문 수량 없음, 코팅 Lot 비용 없음
- 2022 LFW(Laser Focus World) 이노베이터 어워즈에서 플래티넘 상 수상
- 5° AOI에서 -200 fs2의 Negative GDD
- 950 - 1120nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
- Yb:doped Fiber Laser의 펄스 압축용으로 설계
- 광대역 초고속 처프(Chirped) 코팅
- 설계파장(DWL)에서 높은 수치의 LIDT 제공
- S 및 P 편광에 대한 높은 반사율
- 고에너지 극초단 레이저 용도에 안성맞춤
- TECHSPEC® High-Performance Low GDD Ultrafast Mirrors 또한 이용 가능
- 7° AOI에서 최대 -1000 fs2의 Highly Negative GDD
- 60nm 밴드폭에 걸쳐 99.8%가 넘는 최소 반사율(p-편광)
- Yb:doped Fiber Laser의 분산 보정에 적합
- 초고속 처프(Chirped) 코팅
- 780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
- 5° AOI에서 -1300fs2의 Group Delay Dispersion
- Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
- 초고속 처프(Chirped) 코팅
- Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저용 Ultrafast-Enhanced Silver 코팅
- 낮은 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)
- 50Å RMS 미만의 표면 거칠기로 산란 최소화
- Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저 펄스 포커싱에 적합
- 600 – 1000nm 혹은 800 – 1150nm에서 99%가 넘는 반사율
- GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 0±20fs2로 낮음
- 유효 초점 거리: 25 - 500mm
- TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirror 보유
- 2000 - 2200nm 구간에서 99.9%가 넘는 반사율
- 5° AOI에서 -1000fs2의 GDD
- 툴륨 및 홀뮴 레이저의 펄스를 100fs 미만으로 압축하는 데 적합
- 극초단 초고속 처프 코팅(Chirped Coating)
- -145 fs2의 음수 GDD
- 255 - 277nm 사이에서 5°의 입사각(AOI)
- UV 극초단 레이저 빔의 펄스 압축 및 분산 보정 용도에 적합
- UV 음의 분산을 위한 독특한 설계 방식의 극초단 코팅
- 7° AOI에서 최대 -2500fs3의 높은 음수치를 갖는 3차수 분산(TOD)
- 추가 GDD를 유도하지 않고도 3차수 분산(TOD)을 보정하는 데 적합
- 0fs2의 낮은 군지연분산(GDD)
- II-VI LightSmyth™ Transmission Diffraction Gratings 또한 이용 가능
- 5° AOI에서 500 fs2의 양수 GDD
- 99.9%가 넘는 최소 반사율 (P-편광)
- 2800 – 3600nm를 커버하는 광대역 중파적외선(Mid-IR) 코팅 디자인
- 중파적외선 모드 잠금 레이저에 적합
- 열렌즈 효과를 감소시키는 극초단 고분산 코팅
- 5° AOI에서 최대 -1000 fs2의 높은 수치를 갖는 음수 GDD
- 50nm 대역폭에서 99.5%가 넘는 최소 반사율 (P-편광)
- 고출력 극초단 레이저 펄스 생성에 적합
- 5° AOI에서 최대 100fs2의 양수 GDD
- S 및 P 편광의 경우 99.5%가 넘는 높은 반사율
- 700 - 1100nm의 광대역 성능
- Ultrafast Dispersion-Compensating Prisms 또한 이용 가능
- 1030nm 및 1064nm에서 99.99%가 넘는 반사율
- 1064nm, 100Hz, 8ns에서 50 J/cm2의 레이저 손상 임계치
- 나노초, 피코초, 펨토초 레이저 펄스를 위한 범용 설계
- 맞춤 제작 옵션은 최대 200mm 직경까지 적용 가능
- 높은 반사율과 음의 Group Delay Dispersion (GDD)
- 45° 입사각에서의 분산 보정 및 빔 압축에 적합
- Ti:sapphire 등의 Femtosecond Laser를 위한 디자인
- 처프 펄스 증폭 시스템 및 초대역 레이저 발진기에 안성맞춤
- 초광대역 디자인으로 분산 보정 지원
- 600 - 950nm 또는 650 - 1350nm 대역에서 수치가 낮은 -60fs2의 네거티브 GDD 및 99%가 넘는 고반사율 제공
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