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Ultrafast Laser Mirrors

Ultrafast Laser Mirror (초고속 레이저 미러)는 ultrashort laser pulse에 대하여 99% 이상의 높은 반사율과 high laser induced damage threshold를 유지하도록 설계되었습니다. 이 미러는 지정된 파장 범위에서 Group Delay Dispersion (GDD) 및 Group Velocity Dispersion (GVD)을 최소화하여, 분산으로 인한 시간적 확장 및 압축의 효과를 없애줍니다. 최소치의 GDD와 GVD 값은 고반사성과 낮은 GDD를 동시에 결합해주는 겹겹의 코팅을 신중히 선택하면서 이루어집니다. 초고속 레이저 미러는 재료 가공, 분광학 및 생체 의학과 같은 다양한 응용 분야에 사용됩니다. 에드몬드 옵틱스에서는 고객의 특정 어플리케이션에 적합하도록 광범위한 파장 및 입사각 옵션을 제공합니다.

Filter
Yb-Doped Dichroic Mirrors Yb-Doped Dichroic Mirrors 신제품
  • 1030nm에서 반사율 높음, 940nm에서 투과율 높음
  • GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 ±100fs2 미만으로 낮음
  • Yb 레이저에 적합한 다이크로익 미러
PeakPower High LDT Low GDD Ultrafast Mirrors PeakPower High LDT Low GDD Ultrafast Mirrors
TECHSPEC® components are designed, specified, or manufactured by Edmund Optics. TECHSPEC® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기
  • 920nm에서 25fs의 펄스 지속 시간 동안 0.75J/cm2를 초과하는 높은 펨토초 손상 임계값
  • 0에 근접한 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)와 99.5% 이상의 반사율
  • 고급 펨토초 레이저 어플리케이션에 적합
Low GDD Dielectric Ultrafast Laser Mirrors Low GDD Dielectric Ultrafast Laser Mirrors
TECHSPEC® components are designed, specified, or manufactured by Edmund Optics. TECHSPEC® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기
  • 설계 파장 대역에서 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 ±20fs2로 낮음
  • 반사율이 99.9% 이상
  • Ti:Sapphire 및 Yb:doped 극초단 레이저에 적합
Low GDD Ultrafast Mirrors Low GDD Ultrafast Mirrors
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  • 극초단 빔 조정을 위해 높은 반사율을 제공하도록 설계
  • Ion-Beam Sputtered Coating으로 산란과 흡수가 낮음
  • 설계 파장에서 0fs2에 근접한 GDD 제공
Dual Band Low GDD Ultrafast Mirrors Dual Band Low GDD Ultrafast Mirrors
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  • 반사율이 높고 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 낮아 극초단 빔 조향에 적합
  • IBS 코팅으로 산란 및 흡수 손실 최소화
  • Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저의 1차 고조파와 2차 고조파 모두에서 GDD가 0에 근접
Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirrors Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirrors
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  • 600 – 1000nm 혹은 800 – 1150nm에서 반사율이 99% 이상
  • GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 0±20fs2로 낮음
  • Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저에 적합
  • 영국식 표준 규격에 맞게 제공 가능
  • TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirror 보유
UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors
1030nm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors 1030nm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors
  • 5° AOI에서 -200 fs2의 Negative GDD
  • 950 - 1120nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
  • Yb:doped Fiber Laser의 펄스 압축용으로 설계
  • 광대역 초고속 처프(Chirped) 코팅
High-Energy Picosecond and Femtosecond Ultrafast Mirrors High-Energy Picosecond and Femtosecond Ultrafast Mirrors 신제품
1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors 1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
  • 7° AOI에서 최대 -1000 fs2의 Highly Negative GDD
  • 60nm 밴드폭에 걸쳐 99.8%가 넘는 최소 반사율(p-편광)
  • Yb:doped Fiber Laser의 분산 보정에 적합
  • 초고속 처프(Chirped) 코팅
800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
  • 780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
  • 5° AOI에서 -1300fs2의 Group Delay Dispersion
  • Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
  • 초고속 처프(Chirped) 코팅
Ultrafast-Enhanced Silver Coated Off-Axis Parabolic (OAP) Mirrors Ultrafast-Enhanced Silver Coated Off-Axis Parabolic (OAP) Mirrors
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  • Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저용 Ultrafast-Enhanced Silver 코팅
  • 낮은 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)
  • 50Å RMS 미만의 표면 거칠기로 산란 최소화
TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirrors Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirrors
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  • Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저 펄스 포커싱에 적합
  • 600 – 1000nm 혹은 800 – 1150nm에서 99%가 넘는 반사율
  • GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 0±20fs2로 낮음
  • 유효 초점 거리: 25 - 500mm
  • TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirror 보유
2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors 2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors
  • 2000 - 2200nm 구간에서 99.9%가 넘는 반사율
  • 5° AOI에서 -1000fs2의 GDD
  • 툴륨 및 홀뮴 레이저의 펄스를 100fs 미만으로 압축하는 데 적합
  • 극초단 초고속 처프 코팅(Chirped Coating)
UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors
  • -145 fs2의 음수 GDD
  • 255 - 277nm 사이에서 5°의 입사각(AOI)
  • UV 극초단 레이저 빔의 펄스 압축 및 분산 보정 용도에 적합
  • UV 음의 분산을 위한 독특한 설계 방식의 극초단 코팅
UltraFast Innovations (UFI) Third Order Dispersion (TOD) Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) Third Order Dispersion (TOD) Ultrafast Mirrors
  • 7° AOI에서 최대 -2500fs3의 높은 음수치를 갖는 3차수 분산(TOD)
  • 추가 GDD를 유도하지 않고도 3차수 분산(TOD)을 보정하는 데 적합
  • 0fs2의 낮은 군지연분산(GDD)
  • II-VI LightSmyth™ Transmission Diffraction Gratings 또한 이용 가능
UltraFast Innovations (UFI) 3200nm Highly-Positive Dispersive Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 3200nm Highly-Positive Dispersive Ultrafast Mirrors
  • 5° AOI에서 500 fs2의 양수 GDD
  • 99.9%가 넘는 최소 반사율 (P-편광)
  • 2800 – 3600nm를 커버하는 광대역 중파적외선(Mid-IR) 코팅 디자인
  • 중파적외선 모드 잠금 레이저에 적합
UltraFast Innovations (UFI) 1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors with Reduced Thermal Lensing UltraFast Innovations (UFI) 1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors with Reduced Thermal Lensing
  • 열렌즈 효과를 감소시키는 극초단 고분산 코팅
  • 5° AOI에서 최대 -1000 fs2의 높은 수치를 갖는 음수 GDD
  • 50nm 대역폭에서 99.5%가 넘는 최소 반사율 (P-편광)
  • 고출력 극초단 레이저 펄스 생성에 적합
UltraFast Innovations (UFI) Positive Dispersion Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) Positive Dispersion Ultrafast Mirrors
UltraFast Innovations (UFI) High-Power Low-Loss Laser Mirrors UltraFast Innovations (UFI) High-Power Low-Loss Laser Mirrors
  • 1030nm 및 1064nm에서 99.99%가 넘는 반사율
  • 1064nm, 100Hz, 8ns에서 50 J/cm2의 레이저 손상 임계치
  • 나노초, 피코초, 펨토초 레이저 펄스를 위한 범용 설계
  • 맞춤 제작 옵션은 최대 200mm 직경까지 적용 가능
45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors 45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors
  • 높은 반사율과 음의 Group Delay Dispersion (GDD)
  • 45° 입사각에서의 분산 보정 및 빔 압축에 적합
  • Ti:sapphire 등의 Femtosecond Laser를 위한 디자인
UltraFast Innovations (UFI) Ultra-Broadband Complementary Chirped Mirror Pairs Ultra-Broadband Complementary Chirped Mirror Pairs
  • 처프 펄스 증폭 시스템 및 초대역 레이저 발진기에 안성맞춤
  • 초광대역 디자인으로 분산 보정 지원
  • 600 - 950nm 또는 650 - 1350nm 대역에서 수치가 낮은 -60fs2의 네거티브 GDD 및 99%가 넘는 고반사율 제공

Laser Optics

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