Ultrafast Laser Mirrors | 에드몬드 옵틱스

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신제품 Low GDD Ultrafast Mirrors

99% 이상의 반사율
코팅 설계 360 - 3300nm
낮은 그룹 지연 분산(GDD)
TECHSPEC® 고성능 저 GDD 극초단 미러 사용 가능

신제품 High-Energy Picosecond and Femtosecond Ultrafast Mirrors

DWL에서 높은 LIDT
S 및 P 편광에 대한 높은 반사율
고에너지 극초단 레이저 애플리케이션에 이상적
TECHSPEC® 고성능 저 GDD 극초단 미러 사용 가능

TECHSPEC^® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기

신제품 Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirrors

600 - 1000nm 범위에서 99%가 넘는 반사율
±20fs²의 낮은 Group Delay Dispersion
Ti:Sapphire 레이저에 사용하기 적합
영국식 표준 규격으로 제공

TECHSPEC^® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기

신제품 Low GDD Ultrafast Mirrors

초고속 빔 조정을 위해 높은 반사율을 제공하도록 설계
Ion-Beam Sputtered Coating으로 산란과 흡수가 낮음
설계 파장 범위에서 0±20fs²의 GDD 보유

신제품 45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors

높은 반사율과 음의 Group Delay Dispersion (GDD)
45° 입사각에서의 분산 보정 및 빔 압축에 적합
Ti:sapphire 등의 Femtosecond Laser를 위한 디자인

신제품 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
5° AOI에서 -1300fs²의 Group Delay Dispersion
Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
초고속 처프(Chirped) 코팅

신제품 1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

7° AOI에서 최대 -1000 fs²의 Highly Negative GDD
60nm 밴드폭에 걸쳐 99.8%가 넘는 최소 반사율(p-편광)
Yb:doped Fiber Laser의 분산 보정에 적합
초고속 처프(Chirped) 코팅

신제품 1030nm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors

5° AOI에서 -200 fs²의 Negative GDD
950 - 1120nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
Yb:doped Fiber Laser의 펄스 압축용으로 설계
광대역 초고속 처프(Chirped) 코팅

신제품 UltraFast Innovations (UFI) High-Power Low-Loss Laser Mirrors

>99.99% Reflectivity at 1030nm and 1064nm
Laser Damage Threshold of 50 J/cm² at 1064nm, 100Hz, 8ns
Ideal for Nanosecond, Picosecond, and Femtosecond Laser Pulses
Custom Options are Available up to 200mm Diameter

신제품 2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors

2000 - 2200nm 구간에서 99.9%가 넘는 반사율
5° AOI에서 -1000fs²의 GDD
툴륨 및 홀뮴 레이저의 펄스를 100fs 미만으로 압축하는 데 적합
광대역 초고속 처프 코팅(Chirped Coating)

Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirrors

TECHSPEC^® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기

신제품 Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirrors

Ti:sapphire 레이저 포커싱에 적합
600 - 1000nm 구간에서 99%가 넘는 반사율
0±20fs²의 낮은 군지연 분산(GDD)
25 - 500mm의 유효 초점 거리

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Ultrafast Laser Mirror (초고속 레이저 미러)는 ultrashort laser pulse에 대하여 99% 이상의 높은 반사율과 high laser induced damage threshold를 유지하도록 설계되었습니다. 이 미러는 지정된 파장 범위에서 Group Delay Dispersion (GDD) 및 Group Velocity Dispersion (GVD)을 최소화하여, 분산으로 인한 시간적 확장 및 압축의 효과를 없애줍니다. 최소치의 GDD와 GVD 값은 고반사성과 낮은 GDD를 동시에 결합해주는 겹겹의 코팅을 신중히 선택하면서 이루어집니다. 초고속 레이저 미러는 재료 가공, 분광학 및 생체 의학과 같은 다양한 응용 분야에 사용됩니다. 에드몬드 옵틱스에서는 고객의 특정 어플리케이션에 적합하도록 광범위한 파장 및 입사각 옵션을 제공합니다.

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