Ultrafast Laser Mirrors

Ultrafast Laser Mirror (초고속 레이저 미러)는 ultrashort laser pulse에 대하여 99% 이상의 높은 반사율과 high laser induced damage threshold를 유지하도록 설계되었습니다. 이 미러는 지정된 파장 범위에서 Group Delay Dispersion (GDD) 및 Group Velocity Dispersion (GVD)을 최소화하여, 분산으로 인한 시간적 확장 및 압축의 효과를 없애줍니다. 최소치의 GDD와 GVD 값은 고반사성과 낮은 GDD를 동시에 결합해주는 겹겹의 코팅을 신중히 선택하면서 이루어집니다. 초고속 레이저 미러는 재료 가공, 분광학 및 생체 의학과 같은 다양한 응용 분야에 사용됩니다. 에드몬드 옵틱스에서는 고객의 특정 어플리케이션에 적합하도록 광범위한 파장 및 입사각 옵션을 제공합니다.

Ultrafast-Enhanced Silver Coated Silicon Laser Mirrors

TECHSPEC^® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기

신제품

열 관리가 까다로운 극초단 셋업에 적합한 실리콘 기판
Ti:Sapphire 및 Yb 기반 극초단 레이저 시스템에 최적화
저분산 특성이 중요한 극초단 펄스 반사 전용 설계
대상 파장 대역에서 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 30fs² 미만

Yb-Doped Dichroic Mirrors

1030nm에서 반사율 높음, 940nm에서 투과율 높음
GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 ±100fs² 미만으로 낮음
Yb 레이저에 적합한 다이크로익 미러

PeakPower High LDT Low GDD Ultrafast Mirrors

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920nm에서 25fs의 펄스 지속 시간 동안 0.75J/cm²를 초과하는 높은 펨토초 손상 임계값
0에 근접한 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)와 99.5% 이상의 반사율
고급 펨토초 레이저 어플리케이션에 적합

Low GDD Dielectric Ultrafast Laser Mirrors

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설계 파장 대역에서 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 ±20fs²로 낮음
반사율이 99.9% 이상
Ti:Sapphire 및 Yb:doped 극초단 레이저에 적합

Low GDD Ultrafast Mirrors

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극초단 빔 조정을 위해 높은 반사율을 제공하도록 설계
Ion-Beam Sputtered Coating으로 산란과 흡수가 낮음
설계 파장에서 0fs²에 근접한 GDD 제공

Dual Band Low GDD Ultrafast Mirrors

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반사율이 높고 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 낮아 극초단 빔 조향에 적합
IBS 코팅으로 산란 및 흡수 손실 최소화
Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저의 1차 고조파와 2차 고조파 모두에서 GDD가 0에 근접

Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirrors

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600 – 1000nm 혹은 800 – 1150nm에서 반사율이 99% 이상
GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 0±20fs²로 낮음
Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저에 적합
영국식 표준 규격에 맞게 제공 가능
TECHSPEC^® Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirror 보유

UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors

65eV(19nm) 기준 330 아토초 펄스를 위한 설계
피크 반사율이 38%인 다층 코팅
초미세 연마로 1Å 미만의 RMS 표면 거칠기를 구현한 기판
13.5nm을 사용하도록 설계된 EUV Flat Mirror 및 EUV Spherical Mirror 보유
최소 주문 수량 없음, 코팅 Lot 비용 없음
2022 LFW(Laser Focus World) 이노베이터 어워즈에서 플래티넘 상 수상

UltraFast Innovations (UFI) Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

신제품

Ultrafast chirped coatings for pulse compression and dispersion compensation
High reflectivity up to >99.9% with precisely controlled negative Group Delay Dispersion (GDD)
Available for Ti:sapphire, Yb-doped, Thulium (Tm), and Holmium (Ho) ultrafast laser systems