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800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

  • 780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
  • 5° AOI에서 -1300fs2의 Group Delay Dispersion
  • Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
  • 초고속 처프(Chirped) 코팅
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800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors는 분산형 광학 간섭을 기반으로 최적화된 여러 개의 코팅층으로 제작되어 낮은 group delay dispersion (GDD)과 높은 반사율을 제공합니다. 이 미러는 5°의 설계 입사각에서 GDD가 -1300fs2로 매우 낮으며 p-편광에 대한 최소 반사율이 99.8%에 이릅니다. 또한 고분산형 디자인으로 설계되어 3차 및 고차 분산 제어가 가능하고 빔의 안정성이 뛰어납니다. 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors는 Ti:sapphire 레이저와 같은 초고속 펄스의 펄스 압축과 분산 보정용으로 사용하기 적합합니다. 용융 실리카 기판으로 제조되는 이 미러는 영국식 표준 규격으로 제공되고 10-5의 표면 품질도와 λ/10의 불균일성을 특징으로 합니다.

 
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