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Clear Optical Path USAF Target

X-Ray, UV, Thermal, Far-IR 이미징 시스템의 해상도 측정
간편한 장착
투과 용도에 적합

Clear Optical Path USAF 타겟은 매우 얇은 electroformed 니켈 기반으로 제작됩니다. 패턴 부분에 유리가 없으므로 빛은 공기 중으로만 이동하여 색이나 구면 수차 문제를 제거합니다. 타겟 패턴은 Group 0, Element 1에서 Group 3, element 6까지 있습니다. User card가 포함되어 어디에 각 Group과 Element가 있는지 설명합니다. 위에 있는 UV Fused Silica와 Fluorescent USAF 타겟은 NUV 용도까지 사용 가능하지만 이 제품은 deep UV와 Far-IR까지 사용 가능합니다. Electroformed 패턴은 2개의 원형 플레이트 사이에 설치되어 표준 광학 mount, #64-565,에 설치 가능케 합니다.

기술 정보

Number of Line Pairs / mm in USAF Resolving Power Test Target 1951
Element	Group No.
Element	0	1	2	3
1	1.00	2.00	4.00	8.00
2	1.12	2.24	4.49	8.98
3	1.26	2.52	5.04	10.10
4	1.41	2.83	5.66	11.30
5	1.59	3.17	6.35	12.70
6	1.78	3.56	7.13	14.30