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    Coating
    Design Wavelength DWL (nm)
    Substrate

    Laser Line Mirrors

    Laser Mirror는 까다로운 laser 용도에서의 beam steering에 사용됩니다. Laser Mirror는 특정 laser 유형 또는 파장을 위해 설계된 Optical Mirror입니다. Edmund Optics의 Laser Mirror는 특정 laser 파장에서 높은 반사율을 갖도록 최적화된 dielectric coating이 특징입니다.

    Edmund Optics는 Nd:YAG, Excimer, Argon-Ion, Laser Diode 또는 Ti:Sapphire를 포함한 일련의 laser 유형을 위한 광범위한 Laser Mirror를 공급합니다. 아울러, UV, VIS, NIR 또는 IR 스펙트럼용 광대역 Laser Mirror를 공급할 수 있습니다. Edmund Optics가 공급하는 Laser Mirror 대부분은 0°와 45° 사이의 입사각에 맞추어져 있습니다.

    Laser Line λ/20 High Tolerance Right Angle Mirrors
    TECHSPEC® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기
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    Laser Line λ/20 High Tolerance Right Angle Mirrors
    • 설계 파장에서 99.5%가 넘는 반사율
    • ±15 Arcsecond의 각도 허용 오차
    • 열적 안정성이 높은 기판
    Nd:YAG Laser Line Mirrors
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    Nd:YAG Laser Line Mirrors
    Yb:YAG Laser Line Mirrors
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    Yb:YAG Laser Line Mirrors
    High-Energy Picosecond and Femtosecond Ultrafast Mirrors 신제품
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    High-Energy Picosecond and Femtosecond Ultrafast Mirrors
    Low GDD Ultrafast Mirrors 신제품
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    Low GDD Ultrafast Mirrors
    2μm Laser Line Mirrors
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    2μm Laser Line Mirrors
    • 2µm, 10ns, 10Hz에서 10 J/cm2가 넘는 Laser Damage Threshold
    • 홀뮴과 툴륨 레이저 광원을 위해 설계됨
    • λ/7의 표면 정밀도
    Laser Line Concave Mirrors
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    Laser Line Concave Mirrors
    • 레이저 광 포커싱에 적합
    • 중심 파장에서 99.8%가 넘는 반사율
    • 열적 안정성이 높은 용융 실리카 기판
    2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors 신제품
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    2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors
    • 2000 - 2200nm 구간에서 99.9%가 넘는 반사율
    • 5° AOI에서 -1000fs2의 GDD
    • 툴륨 및 홀뮴 레이저의 펄스를 100fs 미만으로 압축하는 데 적합
    • 광대역 초고속 처프 코팅(Chirped Coating)
    Low GDD Ultrafast Mirrors
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    Low GDD Ultrafast Mirrors
    • 초고속 빔 조정을 위해 높은 반사율을 제공하도록 설계
    • Ion-Beam Sputtered Coating으로 산란과 흡수가 낮음
    • 설계 파장 범위에서 0±20fs2의 GDD 보유
    800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors 신제품
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    800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
    • 780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
    • 5° AOI에서 -1300fs2의 Group Delay Dispersion
    • Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
    • 초고속 처프(Chirped) 코팅
    1030nm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors 신제품
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    1030nm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors
    • 5° AOI에서 -200 fs2의 Negative GDD
    • 950 - 1120nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
    • Yb:doped Fiber Laser의 펄스 압축용으로 설계
    • 광대역 초고속 처프(Chirped) 코팅
    1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors 신제품
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    1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
    • 7° AOI에서 최대 -1000 fs2의 Highly Negative GDD
    • 60nm 밴드폭에 걸쳐 99.8%가 넘는 최소 반사율(p-편광)
    • Yb:doped Fiber Laser의 분산 보정에 적합
    • 초고속 처프(Chirped) 코팅
    45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors 신제품
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    45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors
    • 높은 반사율과 음의 Group Delay Dispersion (GDD)
    • 45° 입사각에서의 분산 보정 및 빔 압축에 적합
    • Ti:sapphire 등의 Femtosecond Laser를 위한 디자인
    Gaussian Reflectivity Mirrors 신제품
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    Gaussian Reflectivity Mirrors
    • Laser Cavity 내부에서 반사를 위한 기본 모드 제공
    • 4mm의 중앙 구경에서 가우시안 반사 프로파일 생성
    • 15%부터 최대 35%의 중앙 반사율
    Low Cost Laser Line Mirrors
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    Low Cost Laser Line Mirrors
    • 설계 파장에서 99%가 넘는 반사율
    • λ/10의 표면 정밀도
    • 우수한 가성비
    Argon-Ion Laser Line Mirrors
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    Argon-Ion Laser Line Mirrors
    • 낮은 손실의 Dielectric Coatings
    • 98% 이상의 반사율
    • 모든 일반적인 Argon-Ion Laser 파장
    Excimer Laser Line Mirrors
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    Excimer Laser Line Mirrors
    • 1.5J/cm2의 높은 Damage Threshold
    • 손실이 낮은 유전체 코팅
    • 193nm 및 248nm의 레이저용으로 설계됨
    Fiber Laser Mirrors
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    Fiber Laser Mirrors
    • 일반적인 Fiber 레이저를 위한 설계
    • 1030nm - 1090nm에서 99.2% 이상의 반사율
    • 높은 Damage Thresholds
    Diode Laser Line Mirrors
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    Diode Laser Line Mirrors
    • 설계 파장에서의 반사율 99.8% 이상
    • 파장 범위에서의 탁월한 광대역 성능
    • Common Diode Lasers용으로 설계됨
    Nd:YAG Laser Line Mirror Kits
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    Nd:YAG Laser Line Mirror Kits
    • Kits Include Six Mirrors for the Nd:YAG Harmonics and Dual Band Mirrors
    • Greater than 99% Absolute Reflectivity at Design Wavelength
    • High Damage Thresholds
    • Nd:YAG Laser Line Mirrors are Also Available Individually
    Laser Line Mirrors
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    Laser Line Mirrors
    • Laser Damage Threshold 보장
    • UV 용융 실리카 재질의 기판으로 열적 안정성 및 시간적 안정성이 우수함
    • 설계 파장에서 99%가 넘는 반사율
    • 흡수가 낮은 Ion Beam Sputtered (IBS) 옵션 이용 가능

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