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50mm Dia. BaF2, IR Holographic Wire Grid Polarizer

50mm Dia. BaF<sub>2</sub>, IR Holographic Wire Grid Polarizer, #62-771

50mm Dia. BaF2, IR Holographic Wire Grid Polarizer, #62-771

재고 #62-771
KRW 2,246,800
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수량 1-5
KRW 2,246,800
수량 6
KRW 1,779,600
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Mount:
Black Anodized Aluminum
Operating Temperature (°C):
-20 to 75
Substrate:
Barium Fluoride (BaF2)
Thickness (mm):
2.00
Clear Aperture CA (mm):
34.0
Diameter (mm):
50.00
Extinction Ratio:
150:1 @ 3µm, 300:1 @ 10µm
Construction:
Wire Grid
Wavelength Range (nm):
2000 - 12000
Transmission (%):
>65
Dimensional Tolerance (mm):
±0.2
Polarization:
Notches on polarizer ring are aligned with wires of wire grid
Surface Flatness:
λ/10 @ 10.6μm
Angle of Incidence (°):
0
Damage Threshold, CW:
50 W/cm2
Groove Density (grooves/mm):
2700.00
Groove Parallelism to Edge (°):
N/A
Mount Thickness (mm):
6.0
Type:
Linear Polarizer
Parallelism (arcmin):
≤3
Ring Thickness (mm):
±0.1
Note:
Notches on polarizer ring are aligned with wires of wire grid (max. reflection)

Regulatory Compliance

제품군의 상세 설명

  • 2 - 30μm의 파장 범위에 맞게 디자인됨
  • Holographic Polarizers는 많은 Substrates에 사용 가능
  • Ruled Polarizers는 고출력 Lasers에 아주 적합함
  • Metric Polarizer Mounts를 사용한 360° 회전

Infrared (IR) Wire Grid Polarizers는 비편광 infrared laser 광원의 빛을 편광시킴과 동시에 편광된 빛을 감쇄시키는 데도 사용됩니다. 2개의 grid polarizers를 함께 사용하면 40,000:1 이상의 높은 extinction 비율을 얻을 수 있습니다. 각 polarizer의 편광 축에는 보호용 링 표면에 2개의 흰색 선이 식각 표시되어 있습니다. ruled 및 holographic이 함께 구성된 제품도 제공해 드립니다.

참고: KRS-5는 독성 물질이므로 다룰 때 각별한 주의가 필요합니다. 오염 위험을 막기 위해 항상 고무 장갑이나 비닐 장갑을 착용하여야 합니다.

Holographic Wire Grid Polarizers

Holographic wire grid polarizers는 1 미크론 미만의 wire grid spacing을 만드는 특수 홀로그램 기법을 이용해 제작됩니다. 일반적인 ruled wire grid 방식에 비해 holographic 방식은 좀 더 섬세한 groove spacing을 만들어 짧은 파장에서의 성능에 최적화되어 있습니다. EO는 Barium Fluoride (BaF2), Zinc Selenide (ZnSe), Thallium Bromoiodide (KRS-5), 그리고 Germanium (Ge) 소재의 holographic wire grid polarizers를 공급하고 있습니다.

Ruled Wire Grid Polarizers

Ruled wire grid polarizers는 Calcium Fluoride (CaF2) 및 Zinc Selenide (ZnSe)에서 사용할 수 있습니다. Ruled holographic gratings은 substrate 표면에 직접 형성한 정교한 간격의 grooves를 특징으로 합니다. ruling process는 날카롭고 잘 정의된 peaks를 형성하며 oblique angle에서의 진공증착에 의해 알루미늄 코팅 처리됩니다. direct ruling 및 coating process로 인해 높은 extinction 비율 및 본질적으로 높은 damage threshold를 갖는 밀착된 highly conductive wires가 만들어집니다.

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