320 - 370nm, 50.8mm Dia., Ultrafast Mirror

Low GDD Ultrafast Mirrors

재고 #12-465

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Surface Quality:

10-5

Type:

Laser Mirror

Typical Applications:

Yb:doped Lasers 3rd Harmonic

Clear Aperture (%):

>80

Back Surface:

Commercial Polish

Coating Specification:

R_s >99.75% @ 320 - 370nm
R_p >99.5% @ 327 - 363nm

GDD Specification:

0 ±10fs² @ 320 - 370nm (s-pol), @ 330 - 360nm (p-pol)

Wavelength Range (nm):

320 - 370

Surface Flatness:

λ/8

Coating Type:

Dielectric

Damage Threshold, Pulsed:

0.55 J/cm² @ 343nm, 180fs FWHM, S-polarization, 1 pulse (typical)
0.25 J/cm² @ 343nm, 180fs FWHM, S-polarization, 1000 pulses (typical)
0.37 J/cm² @ 343nm, 180fs FWHM, P-polarization, 1 pulse (typical)
0.22 J/cm² @ 343nm, 180fs FWHM, P-polarization, 1000 pulses (typical)
0.35 J/cm² @ 343 nm, 1 ps FWHM, 100 Hz, P-polarization, 1000 pulses

Coating:

Ultrafast (320-370nm)

Design Wavelength DWL (nm):

343

Diameter (mm):

50.80 +0.00/-0.10

Thickness (mm):

9.52 ±0.10

Angle of Incidence (°):

Fused Silica

Parallelism (arcsec):

<10

Regulatory Compliance

RoHS 2015:

규격준수

Reach 205:

규격준수

제품군의 상세 설명

초고속 빔 조정을 위해 높은 반사율을 제공하도록 설계
Ion-Beam Sputtered Coating으로 산란과 흡수가 낮음
설계 파장 범위에서 0±20fs²의 GDD 보유

TECHSPEC® Low GDD Ultrafast Mirrors는 0°또는 45°의 입사각에서 높은 반사율을 갖도록 설계되어 극초단 레이저의 빔 조정 용도에 이상적인 제품입니다. 이 미러는 정밀 IBS 프로세스를 통해 분산 보정력이 있는 코팅 처리가 되기 때문에 기존의 유전체 레이저 미러보다 흡수가 낮고 산란이 적게 발생합니다. TECHSPEC® Low GDD Ultrafast Mirrors는 설계 파장 범위에서 0에 가까운 군지연 분산 (GDD)을 갖고 있으며 반사되는 빔의 분산을 최소화합니다. 주된 용도로는 펨토초 레이저 펄스의 전송이 있습니다.

참고: 고객의 어플리케이션에 맞는 사용자 정의 파장, 각도, 크기의 TECHSPEC® Low GDD Ultrafast Mirror를 원할 경우 당사로 문의 바랍니다.