25.4mm 5°, 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirror

UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

재고 #12-331

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Surface Quality:

10-5

Type:

Laser Mirror

Wedge (arcmin):

10 ±5

Clear Aperture (%):

Back Surface:

Commercial Polish

Reflection at DWL (%):

>99.9% (typical, p-polarization)

Coating Specification:

R_avg >99.8%, GDD = -1300 fs² @ 780 - 830nm (p-polarization)
R_abs >99.9% @ 800nm (typical, p-polarization)

GDD Specification:

-1300fs² @ 780 - 830nm

Wavelength Range (nm):

780 - 830

Irregularity (P-V) @ 632.8nm:

λ/10

Coating Type:

Dielectric

Damage Threshold, Pulsed:

0.3 J/cm² @ 800nm, 50fs, 1kHz, 100μm Beam Diameter

Coating:

Ultrafast (780-830nm)

Design Wavelength DWL (nm):

800

Diameter (mm):

25.40 +0.0/-0.1

Thickness (mm):

6.35 ±0.2

Angle of Incidence (°):

Fused Silica

Regulatory Compliance

RoHS:

규격준수

제품군의 상세 설명

780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
5° AOI에서 -1300fs²의 Group Delay Dispersion
Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
초고속 처프(Chirped) 코팅

800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors는 분산형 광학 간섭을 기반으로 최적화된 여러 개의 코팅층으로 제작되어 낮은 group delay dispersion (GDD)과 높은 반사율을 제공합니다. 이 미러는 5°의 설계 입사각에서 GDD가 -1300fs²로 매우 낮으며 p-편광에 대한 최소 반사율이 99.8%에 이릅니다. 또한 고분산형 디자인으로 설계되어 3차 및 고차 분산 제어가 가능하고 빔의 안정성이 뛰어납니다. 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors는 Ti:sapphire 레이저와 같은 초고속 펄스의 펄스 압축과 분산 보정용으로 사용하기 적합합니다. 용융 실리카 기판으로 제조되는 이 미러는 영국식 표준 규격으로 제공되고 10-5의 표면 품질도와 λ/10의 불균일성을 특징으로 합니다.