12.7mm 5°, 2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirror

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Type:

Laser Mirror

Typical Applications:

Thulium and Holmium Lasers

Wedge (arcmin):

Clear Aperture (%):

Back Surface:

Commercial Polish

Reflection at DWL (%):

>99.95

Reflectivity (Rp%):

99.9

Coating Specification:

R_avg >99.9% @ 2000 - 2200nm (p-polarization)

GDD Specification:

-1000fs² @ 2000 - 2200nm (p-polarization)

Wavelength Range (nm):

2000 - 2200

Irregularity (P-V) @ 632.8nm:

λ/10

Coating Type:

Dielectric

Coating:

Chirped Ultrafast (2000-2200nm)

Design Wavelength DWL (nm):

2000

Diameter (mm):

12.70 +0.0/-0.1

Thickness (mm):

6.35 ±0.01

Angle of Incidence (°):

Fused Silica (Corning 7980)

Regulatory Compliance

RoHS 2015:

규격준수

Certificate of Conformance:

보기

Reach 235:

규격준수

제품군의 상세 설명

2000 - 2200nm 구간에서 99.9%가 넘는 반사율
5° AOI에서 -1000fs²의 GDD
툴륨 및 홀뮴 레이저의 펄스를 100fs 미만으로 압축하는 데 적합
극초단 초고속 처프 코팅(Chirped Coating)

2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors는 intracavity 분산의 압축을 비롯해 툴륨(Tm)과 홀뮴(Ho) 레이저의 펄스를 압축하도록 설계된 제품으로서 초고속 처프 코팅을 특징으로 합니다. 이러한 미러는 5° AOI에서 높은 음수의 GDD(group delay dispersion)를 특징으로 하며 100fs 미만으로 펄스를 압축할 수 있습니다. 또한 2000 - 2200nm 구간(P-편광)에서 손실률이 낮은 99.9% 이상의 반사율과 99.95%가 넘는 절대 반사율을 제공합니다. 2μm Highly-Dispersive Broadband Mirrors는 검증된 GDD, 저손실, 뛰어난 스펙트럼 성능을 가지고 있기 때문에 2μm thin-disk laser oscillator 내에서 사용하기 안성맞춤입니다. 이와 같은 고분산 미러는 12.7mm와 25.4mm 두 개의 크기로 제공되며 펨토초(femtosecond) 레이저 시스템과의 결합에 이상적으로 사용할 수 있습니다.