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12.7mm 5°, 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirror

UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
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UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
재고 #12-330
KRW 449,800 KRW 269,880
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수량 1-3
KRW 449,800 KRW 269,880
수량 4+
KRW 425,100 KRW 255,060
수량 가격
견적 요청

Surface Quality:
10-5
Type:
Laser Mirror
Wedge (arcmin):
10 ±5
Clear Aperture (%):
80
Back Surface:
Commercial Polish
Reflection at DWL (%):
>99.9% (typical, p-polarization)
Coating Specification:
Ravg >99.8%, GDD = -1300 fs2 @ 780 - 830nm (p-polarization)
Rabs >99.9% @ 800nm (typical, p-polarization)
GDD Specification:
-1300fs2 @ 780 - 830nm
Wavelength Range (nm):
780 - 830
Irregularity (P-V) @ 632.8nm:
λ/10
Coating Type:
Dielectric
Damage Threshold, Pulsed:
0.3 J/cm2 @ 800nm, 50fs, 1kHz, 100μm Beam Diameter
Coating:
Ultrafast (780-830nm)
Design Wavelength DWL (nm):
800
Diameter (mm):
12.70 +0.0/-0.1
Thickness (mm):
6.35 ±0.2
Angle of Incidence (°):
5
Substrate: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More

Regulatory Compliance

제품군의 상세 설명

  • 780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
  • 5° AOI에서 -1300fs2의 Group Delay Dispersion
  • Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
  • 초고속 처프(Chirped) 코팅

800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors는 분산형 광학 간섭을 기반으로 최적화된 여러 개의 코팅층으로 제작되어 낮은 group delay dispersion (GDD)과 높은 반사율을 제공합니다. 이 미러는 5°의 설계 입사각에서 GDD가 -1300fs2로 매우 낮으며 p-편광에 대한 최소 반사율이 99.8%에 이릅니다. 또한 고분산형 디자인으로 설계되어 3차 및 고차 분산 제어가 가능하고 빔의 안정성이 뛰어납니다. 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors는 Ti:sapphire 레이저와 같은 초고속 펄스의 펄스 압축과 분산 보정용으로 사용하기 적합합니다. 용융 실리카 기판으로 제조되는 이 미러는 영국식 표준 규격으로 제공되고 10-5의 표면 품질도와 λ/10의 불균일성을 특징으로 합니다.

 
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