UV Hot Mirrors

0° 입사각에 맞춰 설계된 이 UV Hot Mirrors의 multi-layer dielectric coating은 infrared radiation을 반사시켜 축열을 제한하면서도 UV 및 VIS는 통과시킵니다. fused silica substrate의 높은 투과율은 projection 및 illumination 시스템, 그리고 UV excitation wavelength의 투과와 온도에 민감한 샘플에 해로운 radiation의 차단이 필요한 fluorescence 용도에 아주 적합합니다.

Hot mirrors는 열이 많이 발생해 민감한 부품들이 빨리 손상될 수 있는 많은 프로젝션 및 조명 시스템에 매우 중요합니다. Hot mirrors는 열 생성의 주요 원인인 NIR은 반사시키면서 VIS는 투과시키도록 특수 코팅이 되어 있습니다. Hot mirror를 사용함으로써 전체 시스템 성능에 끼치는 영향이 최소화되도록 heat level이 제한됩니다.

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