신제품
UltraFast Innovations (UFI) Aurora XUV Phase Retarders
- 추가적인 분산이 없는 XUV(Extreme UV)의 근원형 편광
- 최대 40%의 투과율
- 40 – 85eV(15 - 31nm) 또는 10 – 35eV(31 - 124nm)의 파장 범위 옵션
신제품
UltraFast Innovations (UFI) Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
- Ultrafast chirped coatings for pulse compression and dispersion compensation
- High reflectivity up to >99.9% with precisely controlled negative Group Delay Dispersion (GDD)
- Available for Ti:sapphire, Yb-doped, Thulium (Tm), and Holmium (Ho) ultrafast laser systems
UltraFast Innovations (UFI) Dispersion-Control Ultrafast Mirrors
- Designed for Dispersion Control, Pulse Compression, and Dispersion Compensation
- High-Reflectance Coatings for Demanding Laser Applications
- Optimized for Integration into Ultrafast Laser Systems
Ultra-Broadband Complementary Chirped Mirror Pairs
- 처프 펄스 증폭 시스템 및 초대역 레이저 발진기에 안성맞춤
- 초광대역 디자인으로 분산 보정 지원
- 600 - 950nm 또는 650 - 1350nm 대역에서 수치가 낮은 -60fs2의 네거티브 GDD 및 99%가 넘는 고반사율 제공
UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors
- 65eV(19nm) 기준 330 아토초 펄스를 위한 설계
- 피크 반사율이 38%인 다층 코팅
- 초미세 연마로 1Å 미만의 RMS 표면 거칠기를 구현한 기판
- 13.5nm을 사용하도록 설계된 EUV Flat Mirror 및 EUV Spherical Mirror 보유
- 최소 주문 수량 없음, 코팅 Lot 비용 없음
- 2022 LFW(Laser Focus World) 이노베이터 어워즈에서 플래티넘 상 수상
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