Name: 20-40nm, 50.8mm Dia, EUV/IR Dichroic Filter
SKU: 18-280
Price: KRW 7,177,500

20-40nm, 50.8mm Dia, EUV/IR Dichroic Filter

Extreme Ultraviolet (EUV) Dichroic Filters

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Diameter (mm):

50.80

Angle of Incidence (°):

Fused Silica (Corning 7980)

Coating:

Dielectric Multilayer AR

Reflection (%):

>40

Surface Quality:

20-10

Thickness (mm):

5.08 ±0.1

Type:

Dichroic Filter

Parallelism (arcmin):

Dimensional Tolerance (mm):

+0.0/-0.2

Wavelength Range (nm):

20 - 40

Surface Figure, RMS:

<λ/10 @ 633nm

Regulatory Compliance

RoHS:

규격준수

Certificate of Conformance:

보기

제품군의 상세 설명

높은 고조파 생성 시 NIR 레이저 광원에서 EUV 분리
높은 손상 임계치에 맞게 설계
10 – 40nm의 어플리케이션 지원
기성품으로 이용 가능
최소 주문 수량 미적용, 코팅 로트 비용 없음

Extreme Ultraviolet (EUV) Dichroic Filters는 beam separator로 알려진 제품으로서 EUV와 NIR 파장 사이에서 고효율 분리 성능을 제공함에 따라 높은 고조파를 생성하는 용도에 안성맞춤입니다. 용융 실리카 기판으로 제조되는 이 필터는 대안품인 Brewster’s angle beam separator 및 EUV filter보다 더 높은 출력의 레이저 파워를 지원합니다. 또한 10nm - 40nm의 넓은 대역폭 범위를 특징으로 합니다. 이 밖에도 높은 고조파 생성 외 EUV 리소그래피, EUV 나노머시닝, 간섭 회절 이미징, 극초단 펄스 생성을 지원하는 시스템에 사용할 수 있습니다.