25.4mm Dia., 700 - 1100nm, Positive Dispersion Ultrafast Mirror

UltraFast Innovations (UFI) Positive Dispersion Ultrafast Mirrors

재고 #17-069 품절/문의요망

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Wedge (arcmin):

Clear Aperture (%):

Back Surface:

Commercial Polish

Coating Specification:

R_avg >99.5% @ 700 - 1100nm (5° AOI, p-polarization)

GDD Specification:

+100fs² @ 700 - 1100nm (5° AOI, p-polarization)

Wavelength Range (nm):

700 - 1100

Irregularity (P-V) @ 632.8nm:

λ/10

Coating Type:

Dielectric

Coating:

Positive Dispersion (700-1100nm)

Diameter (mm):

25.40 +0.00/-0.05

Thickness (mm):

6.35 ±0.20

Angle of Incidence (°):

Fused Silica (Corning 7980)

Regulatory Compliance

RoHS 2015:

규격준수

Certificate of Conformance:

보기

Reach 235:

규격준수

제품군의 상세 설명

5° AOI에서 최대 100fs²의 양수 GDD
S 및 P 편광의 경우 99.5%가 넘는 높은 반사율
700 - 1100nm의 광대역 성능
Ultrafast Dispersion-Compensating Prisms 또한 이용 가능

UltraFast Innovations (UFI) Positive Dispersion Ultrafast Mirrors는 해당 파장 범위에서 사용되는 가장 일반적인 소재의 GDD와 동일한 부호를 갖는 양수 GDD를 제공합니다. 이러한 양의 chirped mirror는 하이브리드 프리즘/미러 컴프레서와 같은 chirped-pulsed amplifier system 및 펄스 압축 용도에 사용되며, 700 - 1100nm 사이의 S 및 P 편광에서 99.5%가 넘는 높은 반사율을 특징으로 합니다. 또한 소형의 외관을 유지하면서도 5°의 설계 입사각(AOI)에서 극초단 미러 간의 최대 반사 회수를 달성합니다. UltraFast Innovations (UFI) Positive Dispersion Ultrafast Mirrors는 열적 안정성이 우수한 용융 실리카 기판으로 제조되며 25.4mm의 직경을 가지고 있어 근적외선(NIR) 용도와의 결합이 용이합니다. 고객의 레이저 시스템에 맞춤형 크기, 파장 혹은 펄스 프로파일이 필요한 경우 당사로 문의 바랍니다.