25.4mm Dia., 45°, 725 - 1000nm Ultrafast Chirped Mirror

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Type:

Laser Mirror

Typical Applications:

Pulse Compression @ 45° of Ti:sapphire Ultrafast Lasers

Wedge (arcmin):

<10

Clear Aperture (%):

Back Surface:

Commercial Polish

Reflection at DWL (%):

99.8

Coating Specification:

R_avg >99.8% @ 725 - 1000nm (P-Polarization)

GDD Specification:

-70fs² @ 725 - 1000nm (P-Polarization)

Wavelength Range (nm):

725 - 1000

Irregularity (P-V) @ 632.8nm:

λ/10

Coating Type:

Dielectric

Coating:

Ultrafast Chirped (725-1000nm)

Design Wavelength DWL (nm):

800

Diameter (mm):

25.40 +0.00/-0.10

Thickness (mm):

6.35 ±0.2

Angle of Incidence (°):

Fused Silica (Corning 7980)

0.2 J/cm² @ 800nm, 50fs, 1kHz, 100μm Beam Diameter

Regulatory Compliance

RoHS 2015:

규격준수

Certificate of Conformance:

보기

Reach 235:

규격준수

제품군의 상세 설명

높은 반사율과 음의 Group Delay Dispersion (GDD)
45° 입사각에서의 분산 보정 및 빔 압축에 적합
Ti:sapphire 등의 Femtosecond Laser를 위한 디자인

45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors는 빔 전송 중 극초단 빔의 압축 또는 분산 보정을 위해 45°의 입사각으로 설계되었습니다. 이 극초단 미러는 음의 GDD와 725 - 1000nm에서 높은 반사율을 제공하도록 최적화된 다층의 magnetron sputtered coating 처리가 되어 있습니다. 또한 표면 품질이 높은 레이저 등급의 기판으로 제조되어 빛의 산란 및 불균일성은 최소화하면서 반사된 극초단 펄스로 광학적 파워와 밀도를 유지할 수 있습니다. 45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors는 빔 전송 중 Ti:sapphire 등의 펨토세컨드 레이저에서 방출되는 극초단 펄스의 압축 및 분산 보정에 사용하기 적합합니다. 사용자 지정 각도, 크기 또는 설계 파장에 맞는 Ultrafast Chirped Mirror가 필요한 경우에는 당사로 문의 바랍니다.