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25.4mm Dia., 45°, 725 - 1000nm Ultrafast Chirped Mirror

UltraFast Innovations (UFI) 45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) 45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors
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UltraFast Innovations (UFI) 45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors
재고 #12-421
KRW 895,700
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수량 1-3
KRW 895,700
수량 4+
KRW 869,700
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견적 요청

Surface Quality:
10-5
Type:
Laser Mirror
Typical Applications:
Pulse Compression @ 45° of Ti:sapphire Ultrafast Lasers
Wedge (arcmin):
<10
Clear Aperture (%):
80
Back Surface:
Commercial Polish
Reflection at DWL (%):
99.8
Coating Specification:
Ravg >99.8% @ 725 - 1000nm (P-Polarization)
GDD Specification:
-70fs2 @ 725 - 1000nm (P-Polarization)
Wavelength Range (nm):
725 - 1000
Irregularity (P-V) @ 632.8nm:
λ/10
Coating Type:
Dielectric
Damage Threshold, Pulsed:
0.2 J/cm2 @ 800nm, 50fs, 1kHz, 100μm Beam Diameter
Coating:
Ultrafast Chirped (725-1000nm)
Design Wavelength DWL (nm):
800
Diameter (mm):
25.40 +0.00/-0.10
Thickness (mm):
6.35 ±0.2
Angle of Incidence (°):
45
Substrate: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More

Regulatory Compliance

제품군의 상세 설명

  • 높은 반사율과 음의 Group Delay Dispersion (GDD)
  • 45° 입사각에서의 분산 보정 및 빔 압축에 적합
  • Ti:sapphire 등의 Femtosecond Laser를 위한 디자인

45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors는 빔 전송 중 초고속 빔의 압축 또는 분산 보정을 위해 45°의 입사각으로 설계되었습니다. 이 초고속 미러는 음의 GDD와 725 - 1000nm에서 높은 반사율을 제공하도록 최적화된 다층의 magnetron sputtered coating 처리가 되어 있습니다. 또한 표면 품질이 높은 레이저 등급의 기판으로 제조되어 빛의 산란 및 불균일성은 최소화하면서 반사된 초고속 펄스로 광학적 파워와 밀도를 유지할 수 있습니다. 45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors는 빔 전송 중 Ti:sapphire 등의 펨토세컨드 레이저에서 방출되는 초고속 펄스의 압축 및 분산 보정에 사용하기 적합합니다. 사용자 지정 각도, 크기 또는 설계 파장에 맞는 Ultrafast Chirped Mirror가 필요한 경우에는 당사로 문의 바랍니다.

 
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