25.4mm Dia., 255 - 277nm, Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors

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Wedge (arcmin):

Clear Aperture (%):

Back Surface:

Commercial Polish

Coating Specification:

R_avg >80% @ 255 - 277nm (5° AOI, p-polarization)

GDD Specification:

-145fs² @ 255 - 277nm (5° AOI, p-polarization)

Wavelength Range (nm):

255 - 277

Irregularity (P-V) @ 632.8nm:

λ/10

Coating Type:

Dielectric

Coating:

Highly Dispersive UV (255-277nm)

Design Wavelength DWL (nm):

266

Diameter (mm):

25.40 +0.00/-0.05

Thickness (mm):

6.35 ±0.20

Angle of Incidence (°):

Fused Silica (Corning 7980)

Regulatory Compliance

RoHS 2015:

규격준수

Certificate of Conformance:

보기

Reach 235:

규격준수

제품군의 상세 설명

-145 fs²의 음수 GDD
255 - 277nm 사이에서 5°의 입사각(AOI)
UV 극초단 레이저 빔의 펄스 압축 및 분산 보정 용도에 적합
UV 음의 분산을 위한 독특한 설계 방식의 극초단 코팅

UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors는 열적 안정성이 우수한 용융 실리카 기판으로 제조되고 25.4mm의 직경을 가지고 있어 UV 용도와의 결합이 용이합니다. 분산형 광학 간섭을 기반으로 한 극초단 처프 코팅은 미러로 하여금 -145 fs²의 음수 GDD 값을 갖도록 합니다. 이 미러는 빔의 안정성을 위해 고정밀 제어가 가능하도록 설계되었으며 255 - 277nm 사이에서 80%가 넘는 반사율(P-편광)을 특징으로 합니다. 또한 소형의 외관을 유지하면서도 5°의 설계 입사각(AOI)에서 극초단 미러쌍 간의 최대 반사 회수를 달성합니다. UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors는 Ti:sapphire laser의 3차 고조파 및 Yb:doped laser의 4차 고조파로부터 생성되는 펄스와 같이 UV 극초단 레이저 펄스를 압축하는 데 사용할 수 있습니다. 고객의 레이저 시스템에 맞춤형 크기, 파장 혹은 펄스 프로파일이 필요한 경우 당사로 문의 바랍니다.