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25.4mm Dia., 255 - 277nm, Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) 상세 정보 보기

UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors

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재고 #17-066
- +
KRW 1,406,220
수량 1-9
KRW 1,406,220
수량 10+
KRW 1,265,598
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제품사양

Surface Quality:
10-5 (substrate)
Wedge (arcmin):
10
Clear Aperture (%):
80
Back Surface:
Commercial Polish
Coating Specification:
Ravg >80% @ 255 - 277nm (5° AOI, p-polarization)
GDD Specification:
-145fs2 @ 255 - 277nm (5° AOI, p-polarization)
Wavelength Range (nm):
255 - 277
Irregularity (P-V) @ 632.8nm:
λ/10
Coating Type:
Dielectric
Coating:
Highly Dispersive UV (255-277nm)
Design Wavelength DWL (nm):
266
Diameter (mm):
25.40 +0.00/-0.05
Thickness (mm):
6.35 ±0.20
Angle of Incidence (°):
5
Substrate: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)

Regulatory Compliance

제품설명

제품군의 상세 설명

  • -145 fs2의 음수 GDD
  • 255 - 277nm 사이에서 5°의 입사각(AOI)
  • UV 극초단 레이저 빔의 펄스 압축 및 분산 보정 용도에 적합
  • UV 음의 분산을 위한 독특한 설계 방식의 극초단 코팅

UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors는 열적 안정성이 우수한 용융 실리카 기판으로 제조되고 25.4mm의 직경을 가지고 있어 UV 용도와의 결합이 용이합니다. 분산형 광학 간섭을 기반으로 한 극초단 처프 코팅은 미러로 하여금 -145 fs2의 음수 GDD 값을 갖도록 합니다. 이 미러는 빔의 안정성을 위해 고정밀 제어가 가능하도록 설계되었으며 255 - 277nm 사이에서 80%가 넘는 반사율(P-편광)을 특징으로 합니다. 또한 소형의 외관을 유지하면서도 5°의 설계 입사각(AOI)에서 극초단 미러쌍 간의 최대 반사 회수를 달성합니다. UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors는 Ti:sapphire laser의 3차 고조파 및 Yb:doped laser의 4차 고조파로부터 생성되는 펄스와 같이 UV 극초단 레이저 펄스를 압축하는 데 사용할 수 있습니다. 고객의 레이저 시스템에 맞춤형 크기, 파장 혹은 펄스 프로파일이 필요한 경우 당사로 문의 바랍니다.

 
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