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25.4mm Dia., 1000 - 1100nm, High-Power Low-Loss Laser Mirror

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UltraFast Innovations (UFI) High-Power Low-Loss Laser Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) High-Power Low-Loss Laser Mirrors

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Wedge (arcmin):
10±5
Clear Aperture (%):
80
Back Surface:
Commercial Polish
Reflectivity (Rs%):
>99.99% @ 1030 & 1064nm
Reflectivity (Rp%):
>99.98% @ 1030 & 1064nm
GDD Specification:
0fs2 @ 1030nm & 1064nm, 45°, s- and p-pol
Wavelength Range (nm):
1000 - 1100
Irregularity (P-V) @ 632.8nm:
λ/10
Coating Type:
Dielectric
Damage Threshold, Pulsed:
50 J/cm2 @ 1064nm, 100Hz, 8ns pulses
Design Wavelength DWL (nm):
1030, 1064
Diameter (mm):
25.40 +0.00/-0.05
Thickness (mm):
12.70 ±0.05
Angle of Incidence (°):
45
Substrate: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)

Regulatory Compliance

Certificate of Conformance:

제품군의 상세 설명

  • 1030nm 및 1064nm에서 99.99%가 넘는 반사율
  • 1064nm, 100Hz, 8ns에서 50 J/cm2의 레이저 손상 임계치
  • 나노초, 피코초, 펨토초 레이저 펄스를 위한 범용 설계
  • 맞춤 제작 옵션은 최대 200mm 직경까지 적용 가능

UltraFast Innovations (UFI) High-Power Low-Loss Laser Mirrors는 업계 최고의 레이저 손상 임계치와 99.99%가 넘는 반사율을 제공합니다. 이 미러는 1030nm 및 1064nm에서 0fs2의 군지연분산(GDD)을 비롯해 레이저 등급의 표면 품질도와 표면 평탄도를 가지고 있어 요건이 까다로운 레이저 용도에 안성맞춤입니다. 또한 S-편광 빛에 대해서는 99.99%, p-편광 빛에 대해서는 99.98%가 넘는 반사율을 제공하여 나노초, 피코초, 펨토초와 같은 극초단 레이저와 사용하기 적합합니다. 내구성이 뛰어난 유전체 코팅은 1064nm, 100Hz, 8ns에서 50 J/cm2의 레이저 손상 고임계치를 보장하도록 테스트를 거칩니다. UFI High-Power Low-Loss Laser Mirrors는 열적 안정성이 뛰어난 용융 실리카 기판으로 제조되고 25.4mm의 직경을 특징으로 함에 따라 1030nm 또는 1064nm 레이저 시스템과의 결합이 용이합니다. High Power Low Loss Laser Mirror의 크기 및 코팅에 대한 맞춤 제작이 필요한 경우 당사로 문의 바랍니다.

 
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