PeakPower High LDT Low GDD Ultrafast Mirrors
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- 920nm에서 25fs의 펄스 지속 시간 동안 0.75J/cm2를 초과하는 높은 펨토초 손상 임계값
- 0에 근접한 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)와 99.5% 이상의 반사율
- 고급 펨토초 레이저 어플리케이션에 적합
Broadband Dielectric ZERODUR® λ/10 Mirrors
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- 열팽창이 거의 없는 ZERODUR® 기판
- 금속 코팅보다 우수한 반사율 및 LDT 제공
- 0 - 45° 입사각에서 사용할 수 있도록 설계된 자외선(UV), 가시광선(VIS) 및 근적외선(NIR) 반사 코팅
- Metallic Coated ZERODUR® Mirror 보유
UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors
- 65eV(19nm) 기준 330 아토초 펄스를 위한 설계
- 피크 반사율이 38%인 다층 코팅
- 초미세 연마로 1Å 미만의 RMS 표면 거칠기를 구현한 기판
- 13.5nm을 사용하도록 설계된 EUV Flat Mirror 및 EUV Spherical Mirror 보유
- 최소 주문 수량 없음, 코팅 Lot 비용 없음
- 2022 LFW(Laser Focus World) 이노베이터 어워즈에서 플래티넘 상 수상
Stemmed Laser Mirrors
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- Stemmed Design으로 설계되어 스템으로 장착 시 미러 표면의 응력 감소
- 표준 레이저 파장에서 99%가 넘는 반사율
- 10-5 표면 품질도로 민감한 레이저 용도에서 산란 감소
- TECHSPEC® Broadband Dielectric 및 Metallic Coated Stemmed Mirrors 또한 이용 가능
Low Cost Nd:YAG Multi-Line Mirrors
- Nd:YAG 고조파 파장
- 266, 355, 532, 1064nm에서 97%가 넘는 반사율
- 뛰어난 가성비
- Nd:YAG Laser Line Mirrors 및 Low Cost Laser Line Mirrors 또한 이용 가능
Nd:YAG Laser Output Couplers
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- 532nm 및 1064nm Nd:YAG 레이저용으로 설계
- Nd:YAG DWL에서 80%의 반사율
- UV 용융 실리카 기판
Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirrors
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- 600 – 1000nm 혹은 800 – 1150nm에서 반사율이 99% 이상
- GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 0±20fs2로 낮음
- Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저에 적합
- 영국식 표준 규격에 맞게 제공 가능
- TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirror 보유
Yb:YAG Laser Line Mirrors
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- Yb:YAG 고조파 주파수에서의 반사율 >99.8%
- 높은 레이저 손상 임계값(LDT) 보장
- 표면 품질: 10-5, 레이저 어플리케이션에 사용할 경우 산란 감소
- TECHSPEC® Laser Mirror Substrate 및 TECHSPEC® Nd:YAG Laser Line Mirror 보유
Nd:YAG Laser Line Mirrors
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Top Seller
- Nd:YAG Harmonic Frequency에서 99.2%가 넘는 반사율
- Laser Induced Damage Threshold가 높은 제품 사양
- 10-5의 표면 품질도로 민감한 레이저 용도에서 산란 감소
- TECHSPEC® Laser Mirror Substrates 및 TECHSPEC® Yb:YAG Laser Line Mirrors 또한 이용 가능
800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
- 780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
- 5° AOI에서 -1300fs2의 Group Delay Dispersion
- Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
- 초고속 처프(Chirped) 코팅
Laser Line λ/20 High Tolerance Right Angle Mirrors
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- 설계 파장에서 99.5%가 넘는 반사율
- ±15 Arcsecond의 각도 허용 오차
- 열적 안정성이 높은 기판
45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors
- 높은 반사율과 음의 Group Delay Dispersion (GDD)
- 45° 입사각에서의 분산 보정 및 빔 압축에 적합
- Ti:sapphire 등의 Femtosecond Laser를 위한 디자인
Knife-Edge Pickoff Mirrors
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- 서로 근접해서 전파하는 두 개의 빔을 분리하도록 설계됨
- 45°Bevel (비스듬한 면)
- 최대 Knife-Edge까지 이르는 코팅 구경
- 강화 알루미늄, 보호용 골드 및 실버 코팅 옵션
Excimer Laser Line Mirrors
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- 1.5J/cm2의 높은 Damage Threshold
- 손실이 낮은 유전체 코팅
- 193nm 및 248nm의 레이저용으로 설계
Diode Laser Line Mirrors
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- 설계 파장에서의 반사율 99.8% 이상
- 파장 범위에서의 탁월한 광대역 성능
- Common Diode Lasers용으로 설계됨
Precision Broadband Laser Mirrors
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- Tunable Lasers 및 다중 Laser Sources 반사에 적합
- 모든 Polarization 상태는 0 - 45°부터 높은 반사율
- 다양한 코팅 옵션 이용 가능
Laser Mirror Substrates
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- 표면 평탄도: λ/10, 표면 품질: 10-5
- 고품질의 용융 실리카 기판
- 원형/직사각형 형태로 영국식 표준 규격에 맞게 제공 가능
- Window Substrate 보유
Uncoated Laser Window Substrates
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- 표면 평탄도: λ/10, 표면 품질: 10-5
- 용융 실리카 혹은 N-BK7 소재
- 드롭인 교체 솔루션 용도로 영국식 표준 규격에 맞게 제공 가능
- 레이저 라인 코팅 버전 제공
- Mirror Substrate 보유
Superpolished Substrates
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- 양쪽 표면이 1Å 미만의 RMS 표면 거칠기를 갖도록 초미세 연마 가공
- 표면 산란이 적어 UV/고출력 레이저 어플리케이션에 적합
- 베벨과 엣지 부분이 연마 가공된 UV 용융 실리카 기판
- 자체 제조 기술을 통해 6 - 76.2mm의 맞춤형 크기와 형태, 0.5Å 미만의 표면 거칠기 구현
Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors
- 13.5nm에서 최대 반사율 달성
- EUV 빔 조정 및 고조파 분리용으로 설계
- 5° 및 45° AOI 버전으로 제공
Precision Ultraviolet Mirrors
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- 120nm와 190nm의 설계 파장
- 지정된 영역에서 85%가 넘는 평균 반사율
- 향상된 금속 코팅으로 VIS 영역까지 확장된 광대역 반사력
Low Cost Laser Line Mirrors
신제품
- 설계 파장에서 99%가 넘는 반사율
- λ/10의 표면 정밀도
- 우수한 가성비
- Nd:YAG, Yb:YAG 및 다이오드 레이저용으로 설계
Dual Band Laser Line Mirrors
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- 설계 파장에서 99%가 넘는 반사율
- 표면 품질: 10-5, 감도가 높아야 하는 레이저 어플리케이션에 적합
- 파장 대역: 532nm/1064nm, 635-670nm/1064nm, 800nm/1030nm
- TECHSPEC® Nd:YAG Laser Line Mirror 보유
Polarization Maintaining Mirrors
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- 45° 입사각에서 원형의 입사 편광 상태를 유지
- 532nm 혹은 1064nm에서의 반사율은 최대 99.9%, 650nm에서의 반사율은 80%(정렬용)
- 설계 가능 직경: 12.7mm, 25.4mm, 50.8mm
Ultra-Broadband Complementary Chirped Mirror Pairs
- 처프 펄스 증폭 시스템 및 초대역 레이저 발진기에 안성맞춤
- 초광대역 디자인으로 분산 보정 지원
- 600 - 950nm 또는 650 - 1350nm 대역에서 수치가 낮은 -60fs2의 네거티브 GDD 및 99%가 넘는 고반사율 제공
UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors
- -145 fs2의 음수 GDD
- 255 - 277nm 사이에서 5°의 입사각(AOI)
- UV 극초단 레이저 빔의 펄스 압축 및 분산 보정 용도에 적합
- UV 음의 분산을 위한 독특한 설계 방식의 극초단 코팅
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