13.5nm, 25.4mm Dia, 5° AOI, EUV Flat Mirror

Name: 13.5nm, 25.4mm Dia, 5° AOI, EUV Flat Mirror
SKU: 38-759
Price: KRW 3,763,620 KRW

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors

재고 번호 #38-759 6개 보유

- +

KRW 3,763,620

가격(부가세 별도)
수량 1+	KRW 3,763,620 개당
더 필요하신가요?	견적 요청

+ 저장 목록에 추가하기
Create an account or log in to access saved list

제품 비교하기

제품 정보 다운로드

제품사양

General

Type:

Flat Mirror

Physical & Mechanical Properties

Diameter (mm):

25.40 ±0.25

Back Surface:

Commercial Polish

Clear Aperture (%):

Edges:

Fine Ground

Parallelism (arcmin):

Surface Roughness (Å):

<5 RMS

Thickness (mm):

6.35 ±0.508

Optical Properties

Surface Flatness (P-V):

λ/10 @ 632.8nm

Single Crystal Silicon

Surface Quality:

10-5

Coating Specification:

R_abs >60% @ 13.5nm, 5° (s-pol)

Coating:

Mo/Si Multilayer
Top Layer: Silicon

Coating Type:

Metal/Semiconductor

Angle of Incidence (°):

Design Wavelength DWL (nm):

13.5

Wavelength Range (nm):

13.18 - 13.68

Full Width-Half Max FWHM (nm):

0.50

Reflection at DWL (%):

>60

Electrical

Center Energy (eV):

Regulatory Compliance

Certificate of Conformance:

보기

제품설명

13.5nm에서 최대 반사율 달성
EUV 빔 조정 및 고조파 분리용으로 설계
5° 및 45° AOI 버전으로 제공

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors는 설계 파장과 입사각에서 반사율이 최대치에 이르도록 설계된 다층 구조의 미러입니다. 이 미러는 초미세연마 가공된 단일 크리스털 실리콘 기판에 코팅 처리가 되어 3Å RMS 미만의 표면 거칠기를 제공합니다. 45° AOI mirror는 s-편광 빔 조정 용도에 유용한 반면, 5° AOI mirror는 비편광 빔과 함께 사용할 수 있습니다. EUV mirror의 용도로는 Coherent Diffractive Imaging (CDI) 및 소재 과학 연구가 있습니다. 이 밖에도 Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors는 High Harmonic Generation (HHG) 빔을 위한 harmonic selector처럼 사용할 수 있습니다.

참고: 각 미러의 생산 시행 견본에 대한 테스트 데이터는 본품에 함께 포함됩니다.