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    Coating
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    Ultrafast Laser Mirrors

    Laser Optics

    Ultrafast Laser Mirror (초고속 레이저 미러)는 ultrashort laser pulse에 대하여 99% 이상의 높은 반사율과 high laser induced damage threshold를 유지하도록 설계되었습니다. 이 미러는 지정된 파장 범위에서 Group Delay Dispersion (GDD) 및 Group Velocity Dispersion (GVD)을 최소화하여, 분산으로 인한 시간적 확장 및 압축의 효과를 없애줍니다. 최소치의 GDD와 GVD 값은 고반사성과 낮은 GDD를 동시에 결합해주는 겹겹의 코팅을 신중히 선택하면서 이루어집니다. 초고속 레이저 미러는 재료 가공, 분광학 및 생체 의학과 같은 다양한 응용 분야에 사용됩니다. 에드몬드 옵틱스에서는 고객의 특정 어플리케이션에 적합하도록 광범위한 파장 및 입사각 옵션을 제공합니다.

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    2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors
    • 2000 - 2200nm 구간에서 99.9%가 넘는 반사율
    • 5° AOI에서 -1000fs2의 GDD
    • 툴륨 및 홀뮴 레이저의 펄스를 100fs 미만으로 압축하는 데 적합
    • 광대역 초고속 처프 코팅(Chirped Coating)
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    Low GDD Ultrafast Mirrors
    • 초고속 빔 조정을 위해 높은 반사율을 제공하도록 설계
    • Ion-Beam Sputtered Coating으로 산란과 흡수가 낮음
    • 설계 파장 범위에서 0±10fs2의 GDD 보유
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    800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
    • 780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
    • 5° AOI에서 -1300fs2의 Group Delay Dispersion
    • Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
    • 초고속 처프(Chirped) 코팅
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    1030nm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors
    • 5° AOI에서 -200 fs2의 Negative GDD
    • 950 - 1120nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
    • Yb:doped Fiber Laser의 펄스 압축용으로 설계
    • 광대역 초고속 처프(Chirped) 코팅
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    1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
    • 7° AOI에서 최대 -1000 fs2의 Highly Negative GDD
    • 60nm 밴드폭에 걸쳐 99.8%가 넘는 최소 반사율(p-편광)
    • Yb:doped Fiber Laser의 분산 보정에 적합
    • 초고속 처프(Chirped) 코팅
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    45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors
    • 높은 반사율과 음의 Group Delay Dispersion (GDD)
    • 45° 입사각에서의 분산 보정 및 빔 압축에 적합
    • Ti:sapphire 등의 Femtosecond Laser를 위한 디자인

    Ultrafast Broadband Laser Mirrors
    • 99%가 넘는 반사율
    • 70-140nm 파장 범위에서 높은 성능 발휘
    • CWL에서 GDD가 40 fs2 미만인 경쟁력 있는 가격대의 제품
    • Ultrafast Laser Line Mirrors 또한 이용 가능

    Ultrafast Laser Line Mirrors
    • 99% 이상의 반사율
    • 266nm - 1550nm의 옵션 이용 가능
    • 낮은 Low Group Delay Dispersion (GDD)

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