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800 - 1150nm, 25.4mm Dia. Ultrafast-Enhanced Silver, Silicon, Laser Mirror

Name: 800 - 1150nm, 25.4mm Dia. Ultrafast-Enhanced Silver, Silicon, Laser Mirror
Brand: TECHSPEC
SKU: 90-195
Price: KRW 211,700 KRW

재고 번호 #90-195 신제품 3개 보유

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제품사양

General

Type:

Flat Mirror

Physical & Mechanical Properties

Parallelism (arcmin):

Clear Aperture (%):

Back Surface:

Commercial Polish

Diameter (mm):

25.40 +0.00/-0.10

Thickness (mm):

6.35 ±0.10

Edges:

Ground, protective bevel as needed

Optical Properties

Surface Quality:

40-20

Coating Specification:

Ravg >99% @ 850 - 1150nm, 0° Rs >99% @ 800 - 1150nm, 45° Rp >98.5% @ ~850 - 1100nm, 45°

GDD Specification:

0 ±30 fs² @ 800-1100 nm

Wavelength Range (nm):

800 - 1150

Surface Flatness (P-V):

λ/10

Coating Type:

Ultrafast-Enhanced Silver

Coating:

Ultrafast-Enhanced Silver (800-1150nm)

Optical Grade Silicon

0.35 J/cm² @ 1030nm, 200fs, 1 pulse (typical) 0.10 J/cm² @ 1030nm, 200fs, 100Hz, 1000 pulses (typical)

Regulatory Compliance

Certificate of Conformance:

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제품설명

열 관리가 까다로운 극초단 셋업에 적합한 실리콘 기판
Ti:Sapphire 및 Yb 기반 극초단 레이저 시스템에 최적화
저분산 특성이 중요한 극초단 펄스 반사 전용 설계
대상 파장 대역에서 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 30fs² 미만

해당 제품은 극초단 펄스 어플리케이션에 필수적인 Broadband-Enhanced Silver 코팅과 낮은 GDD 특성을 결합한 제품입니다. 펄스 충실도(pulse fidelity) 유지가 핵심인 시스템에 최적화되었으며 특정 파장 대역(600 – 1000nm 혹은 800 – 1150nm)에서의 반사율과 GDD가 특성화되어 있습니다. 해당 제품은 비슷한 사양의 용융 실리카 기판 미러보다 열전도율이 높이며, 이는 열 관리가 까다로운 광학 셋업에서 흡수된 열을 고르게 분산시키는 데 효과적입니다. 또한, 높은 반사율, 분산 제어, 그리고 내열성이 우수한 기판이 요구되는 광대역 극초단 빔 전달 시스템에 적합한 솔루션입니다.