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Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors


  • 13.5nm에서 최대 반사 달성
  • EUV 빔 조정 및 고조파 분리 용도로 설계
  • 5° 및 45° AOI 버전으로 이용 가능

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirror는 멀티레이어로 구성된 미러 제품으로서 설계 파장과 입사각에서 최대치의 반사를 달성하도록 설계되었습니다. 이 미러는 매우 정밀하게 연마된 단일 크리스탈 실리콘 기판 위에 증착된 코팅과 3Å RMS 미만의 표면 거칠기를 특징으로 합니다. 45° AOI mirror는 s 편광 상태의 빔을 조정하는 데 유용하며 5° AOI mirror는 비편광 빔과 함께 사용할 수 있습니다. EUV mirror의 용도로는 Coherent Diffractive Imaging (CDI) 및 재료 과학 연구가 있습니다. Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirror는 High Harmonic Generation (HHG) 빔을 위해 고조파를 선별하는 기능도 제공할 수 있습니다.

참고: 각 미러의 생산 운영 샘플에 관한 테스트 데이터가 포함됩니다.

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