600 - 1000nm, 50.8mm Dia. Uncoated, Silicon, Laser Mirror

• 열 관리가 까다로운 극초단 셋업에 적합한 실리콘 기판
• Ti:Sapphire 및 Yb 기반 극초단 레이저 시스템에 최적화
• 저분산 특성이 중요한 극초단 펄스 반사 전용 설계
• 대상 파장 대역에서 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 30fs² 미만

해당 제품은 극초단 펄스 어플리케이션에 필수적인 Broadband-Enhanced Silver 코팅과 낮은 GDD 특성을 결합한 제품입니다. 펄스 충실도(pulse fidelity) 유지가 핵심인 시스템에 최적화되었으며 특정 파장 대역(600 – 1000nm 혹은 800 – 1150nm)에서의 반사율과 GDD가 특성화되어 있습니다. 해당 제품은 비슷한 사양의 용융 실리카 기판 미러보다 열전도율이 높이며, 이는 열 관리가 까다로운 광학 셋업에서 흡수된 열을 고르게 분산시키는 데 효과적입니다. 또한, 높은 반사율, 분산 제어, 그리고 내열성이 우수한 기판이 요구되는 광대역 극초단 빔 전달 시스템에 적합한 솔루션입니다.