High Resolution Microscopy Slide Targets

High Resolution Microscopy Slide Targets는 고정밀 e-beam lithography 방식으로 설계된 제품입니다. 타깃의 패턴은 광대역(DUV-VIS-NIR) 스펙트럼 투과가 가능한 10 × 10mm²의 용융 실리카 기판 위에 에칭(etching) 처리된 후 optical density가 높은 크롬 코팅층을 입습니다. 이후 이 크롬 코팅층을 제거하면, 최소 100nm 크기에 이르는 패턴이 생성됩니다. High Resolution Microscopy Slide Target은 탁월한 치수 안정성을 제공하며 금속의 현미경 슬라이드 홀더에 장착되어 있습니다. 각각의 타깃에 negative pattern을 사용하면 구조체가 투명해지고, 반면에 배경은 크롬 코팅층으로 차단됩니다.

High Res Microscopy USAF Target

High Res Microscopy USAF Targets는 투과광에서 대물 렌즈의 해상 한계(resolution limit)를 쉽게 측정해주며, 수평/수직 정렬에서 7.5 - 3300 lp/mm의 59가지 라인 패턴으로 구성됩니다. 이러한 타깃은 4.0 - 0.25μm 지름을 갖는 5개의 핀홀을 특징으로 하기 때문에 마이크로 이미징 광학의 특성을 상세하게 규정해줍니다.

High Res Microscopy Star Target

High Res Microscopy Star Targets는 5개의 Siement star로 구성되어 star의 중심에 tapered segment가 최소 150nm 폭에 맞춰 정밀하게 제조된다는 특이점을 보여줍니다. 이와 같은 타깃은 개구수(NA)가 매우 높은 현미경 대물 렌즈의 해상도를 결정짓는 데 매우 이상적인 제품입니다.

High Res Microscopy Checker Board

High Res Microscopy Checker Board는 50 x 50µm²의 정사각형으로 구성되어 총 9.0 x 9.0mm²의 사이즈를 갖습니다. 이러한 checker board는 이미지의 왜곡과 곡률을 테스트하거나 직선 및 날카로운 모서리를 이용해 이미지의 품질을 측정하는 데 적합한 제품입니다.