Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors 13.5nm 전용으로서 즉시 배송 가능

세계 최고의 광학 부품 공급 업체인 에드몬드 옵틱스는 새롭게 출시된 Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors를 선보입니다. 정밀 광택연마 처리된 이 멀티 레이어 미러는 설계 파장과 입사각(AOI)에서 반사율이 최대가 되도록 고안된 제품으로서 주로 극자외선(EUV) 빔을 조정하거나 harmonic을 분리하는 데 사용됩니다.

13.5nm에서 반사율이 최대가 되도록 설계

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors는 5° 및 45° AOI 버전으로 제공되며 극자외선(EUV) 스펙트럼 내에서도 가장 높은 반사율을 이용할 수 있는 파장인 13.5nm에서 완벽에 가까운 반사율을 특징으로 합니다. RoHS 규정을 준수하는 이 미러는 초광택 연마된 단일 크리스탈 실리콘 위에 증착 코팅 처리가 되어 열적 안정성이 매우 뛰어납니다. 또한 표면 거칠기가 3Å RMS 미만이기 때문에 입사광의 산란이 크게 감소합니다. 멀티 레이어의 금속성 반도체 코팅은 탑 레이어가 Si인 Mo/Si의 다층 구조로 이루어져 있습니다. 6.35mm 두께에 632.8nm에서 표면 평탄도가 λ/10 인 45° AOI mirror는 s-편광 빔을 조정하는 데 안성맞춤이며 비편광 빔과 사용 시에도 뛰어난 성능을 발휘합니다.

CDI 및 재료 과학 연구에 적합

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors는 Coherent Diffractive Imaging (CDI) 및 재료 과학 연구 등 신흥 응용 분야에 주로 활용됩니다. CDI는 해상도가 10nm에 이르는 비접촉 이미지 처리 기술로서 일반적으로 초소형 나노섬유 구조체를 분석하는 데 사용됩니다. 뿐만 아니라 이 미러는 High Harmonic Generation (HHG) 빔을 위해 harmonic selector로도 사용이 가능합니다. Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors는 항시 재고가 있는 기성품으로서 주문 즉시 배송이 이루어집니다.