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Image Analysis Test Targets

Image Analysis Test Target은 해상도, 대비, 심도 같은 이미지 품질을 측정하여 이미징 시스템의 성능을 평가하고 교정하는 데 사용됩니다. 이미징 렌즈를 통해 Image Analysis Test Target을 들여다 보면, 이미징 시스템의 정확성을 측정할 수 있는 형태 또는 무늬를 상세히 관찰할 수 있습니다. Image Analysis Test Target은 성능에 대한 정확한 인증과 다양한 시스템과 함께 사용할 수 있도록 만들어진 기존 표준 규격에 따라, 효과적으로 이미징 시스템의 능력을 평가합니다.


DOF 5-15 Depth of Field Target
  • 이미지 시스템의 심도 테스트
  • 계산의 필요 제거

Dot and Square Calibration Target
  • 측정 calibration을 위한 디자인
  • 유리에 Positive와 Negative 크롬 패턴
  • 이미지를 위한 높은 Contrast 타깃
  • 0.5mm에서 10mm까지의 크기

Dual Axis Linear Scale Stage Micrometer
  • New Opal 버전 가능
  • Dual Axis 디자인
  • English와 Metric Sacle
  • NIST 인증 버전 가능

EO Machine Vision Stage Micrometers
  • NIST Traceable Certificate of Accuracy 포함
  • 비전 시스템의 빠른 교정에 적합
  • 튼튼한 저장 케이스 포함

EO Telecentricity Target
  • 크기와 길이 측정을 만드는 비전 시스템에 꼭 필요한 도구
  • 어떤 타입의 렌즈도 교정
  • 많은 배율 범위 커버

Image Analysis Micrometer
  • 측정 교정을 위해 디자인

Kodak Imaging Chart
  • 18 개가 넘는 테스트 패턴
  • 8 ½" x 11" 필름

Micro Line and Dot Standard Stage Micrometer
  • Pixel Dithering 교정
  • 2μm에서 100μm 범위의 Line과 Dot Range

Multi-Function Calibration Target for Low Magnification Systems
  • 0.08X에서 4X 시스템 교정
  • MTF, DOF, 해상도, FOV와 왜곡 측정
  • 투과나 반사 시스템 교정 가능
  • NIST Certificate of Accuracy 포함

Multi-Function High Magnification Calibration Targets
  • 측정 교정을 위해 디자인-현미경과 머신 비전 시스템으로 적합
  • Ronchi Rulings, Concentric Circles, Square Grids, Linear Microscale을 포함
  • 다른 배율의 두 가지 타깃 가능
  • NIST Certificate of Accuracy가 포함됨

Multi-Grid Standard Stage Micrometer
  • 고 배율 시스템의 왜곡 교정

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