UltraFast Innovations (UFI) EUV Attosecond Multilayer Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) Extreme Ultraviolet (EUV) Attosecond Multilayer Mirrors는 아토초 펄스의 조향, 포커싱, 쉐이핑용으로 설계된 제품입니다. 다중 코팅은 6eV (1.8nm) 대역폭과 함께 65eV (19nm)에 중심이 맞춰져 있으며, s-편광에 대하여 38%의 최대 반사율을 제공합니다. 이 미러는 시간적 지속시간이 330 아토초인 EUV 펄스를 지원합니다. UFI Extreme Ultraviolet (EUV) Attosecond Mirrors는 high harmonic generation (HHG), free electron laser (FEL)를 비롯해 기타 양자 광학 응용 분야에 기초한 아토초 펄스 생성 및 쉐이핑에 이상적으로 사용할 수 있습니다. 직경이 25.4mm인 flat 및 concave mirror 또한 이용이 가능합니다. 센터 에너지, 대역폭, 기타 사양에 대한 맞춤형 EUV multilayer mirror가 필요한 경우 당사로 문의 바랍니다. 

Atomic precision ion beam deposition results in atomically-smooth coating layers. These mirrors allow for precision control of wavelength and spectral phase with high efficiency in a growing application space. Attosecond science pushes the limits of ultrafast lasers, providing access to some of the most fundamental scientific processes like the motion of electrons. EUV Mirrors are also known as XUV/Soft X-Ray Mirrors. The physical principal behind EUV Attosecond Multilayer Mirrors is the interference of reflected and scattered EUV radiation from each interface of the multilayer stack. Flat and concave mirrors with a 25.4mm diameter are available; please contact us if your application requires an EUV multilayer mirror with a customized center energy, bandwidth, or other specifications.