Name: 760 - 840nm, 25.4mm Dia. x 5.00mm Thickness, Ultrafast Laser Line Mirror
SKU: 85-103
Price: KRW 153,700

760 - 840nm, 25.4mm Dia. x 5.00mm Thickness, Ultrafast Laser Line Mirror

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Surface Quality:

20-10

Type:

Laser Mirror

Typical Applications:

Ti:Sapphire 1st Harmonic

Parallelism (arcmin):

Clear Aperture (%):

>80

Durability:

MIL-C-675A

Back Surface:

Commercial Polish

Coating Specification:

R_avg >99% @ 760 - 840nm

GDD Specification:

0 ±30fs² @ 740-860nm

Wavelength Range (nm):

760 - 840

Surface Flatness (P-V):

λ/8

Coating Type:

Dielectric

Coating:

Ultrafast (760-840nm)

Design Wavelength DWL (nm):

800

Diameter (mm):

25.40 +0.0/-0.1

Thickness (mm):

5.00 ±0.1

Angle of Incidence (°):

Fused Silica (Corning 7980)

1000-on-1: >0.25 J/cm² @ 800nm, 100fs, 100Hz

Regulatory Compliance

RoHS 2015:

규격준수

Certificate of Conformance:

보기

Reach 233:

규격준수

제품군의 상세 설명

99%가 넘는 반사율
360 - 3300nm를 커버하는 코팅 설계
낮은 군지연 분산(GDD)
TECHSPEC® High-Performance Low GDD Ultrafast Mirrors 또한 이용 가능

Low Group Delay Dispersion (GDD) Ultrafast Mirrors는 Er:glass, Ti:sapphire 혹은 Ytterbium-doped laser를 사용하는 용도를 위해 설계되었습니다. 이 레이저 미러는 360 - 3300nm의 설계 파장과 함께 광대역 파장 범위에 걸쳐 반사를 극대화하도록 최적화가 된 제품입니다. 다층의 유전체 코팅은 GDD를 최소화하도록 설계되어 극초단 빔을 전송해야 하는 용도에 사용하기 적합합니다. Low GDD Ultrafast Mirrors는 열팽창 계수가 낮은 기판으로 제조되어 Ti:sapphire, Yb:doped, fiber를 비롯해 OPA/OPO, OPCPA 시스템과 같은 다양한 극초단 레이저 광원에 안성맞춤입니다.

참고: 맞춤형 파장, 각도, 크기가 필요한 경우 당사로 문의 바랍니다.