무엇을 도와드릴까요?
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고에너지 UV 광자를 사용하여 정밀도와 성능 향상 |
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고가에 부피가 큰 기존 UV 레이저의 단점 개선 |
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보다 저렴해진 차세대 컴팩트 UV 레이저로 접근성 향상 |
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반도체 및 현미경 검사, 살균 성능의 발전 촉진 |
레이저 광학을 사용하는 산업 분야는 점점 더 짧은 자외선(UV) 파장을 사용하는 방향으로 흐름이 변해가고 있습니다. 이는 주변 영역으로 전달되는 열을 최소화하면서 해상도는 향상시키고 국소의 정밀한 작업 영역을 형성할 수 있기 때문입니다. 최근까지만 해도 연속파(CW) UV 레이저 광원은 고가에 큰 부피로 인하여 특히 대학 연구와 같은 다양한 분야에서는 사용상 제약이 많았습니다. 현재는 비용 효율적인 소형 UV 레이저의 개발로 이와 같은 제약이 줄어들면서 마이크로머시닝부터 UV 라만 분광법, 병원균의 비활성화를 위한 살균에 이르기까지 자외선을 활용할 수 있는 분야가 확장되었습니다.
초점을 맺은 레이저 스폿 크기는 파장에 비례하기 때문에 UV 레이저는 적외선 또는 가시광 레이저에 비해 더 높은 공간 해상도를 확보할 수 있습니다. 이처럼 해상도의 향상은 반도체 및 마이크로머시닝 산업에서 정밀 결함 검사를 가능하게 합니다. 다양한 소재를 가공할 때 UV 레이저는 물질을 기화 또는 융해시키는 대신 원자 결합을 직접 파괴하여 결과적으로 주변부에 가해지는 열을 줄여줍니다. UV 파장의 고에너지는 단백질을 포함한 생체 분자의 여기 형광(exciting fluorescence) 용도에 안성맞춤으로서 광범위한 생의학 응용 분야에서 유용하게 사용됩니다. 이 밖에도 UVC 램프 또는 LED보다 더 효율적으로 고출력 UVC 방사선(200-280nm 사이의 파장)을 전달하는 방식으로 표면을 살균할 수 있으므로 고효율 살균 시스템에도 이상적으로 사용할 수 있습니다.1
연속파(CW) UV 레이저는 전통적으로 이온화 아르곤 가스를 이득 매질로 사용하거나 주파수를 4배로 증가시키는 근적외선 네오디뮴 레이저를 통해 작동해왔습니다. 주파수를 4배로 증가시키는 시스템은 두 개의 외부 공진기로 초기 빔의 주파수를 일단 두 배로 증가시킨 후 이 과정을 다른 공진기에서도 반복하는 작업을 거쳐야합니다.2 이러한 시스템은 복잡할 뿐만 아니라 두 공진기 및 아르곤 이온 레이저 모두 적어도 신발 상자 2개 크기 정도 되기 때문에 휴대용 장치로 사용하기에는 어려움이 있습니다.
UV 레이저 기술의 발전은 더 작고 저렴한 장치의 개발로 이어졌습니다. UVC Photonics에서 새롭게 개발한 praseodymium-doped yttrium lithium fluoride (YLF) 레이저는 주파수를 4배가 아닌 2배로 증가시켜 261nm 레이저 빔을 생성합니다(그림 2).2 이러한 방식을 적용하면, 시스템 복잡성과 필수 구성 요소의 수가 크게 줄어듭니다. 이 레이저는 레이저 다이오드와 유사하게 작동하며, 공진기를 잠그거나 온도를 안정화하기 위해 복잡한 구성의 전자 장치가 필요하지 않습니다.
UVC Photonics의 레이저는 261nm에서 10mW 이상의 연속파(CW) 출력을 달성하고 5W 미만의 작동 전력을 소모하면서도 크기는 22 x 24 x 71mm에 불과합니다.1 이러한 특성으로 인해 UV 레이저 광원의 비용 부담이 큰 대학 실험실 및 산업 응용 분야뿐만 아니라 휴대용 시스템에 이상적으로 사용할 수 있습니다. 아르곤 이온 레이저는 일반적으로 10kW의 전력을 소비하고 10W의 출력을 생산하는 반면, 주파수를 4배로 증가시킨 UV 레이저는 최대 500mW 이상의 출력을 생산할 수 있습니다. 이전 기술은 더 높은 출력을 달성할 수 있다는 장점을 제공하지만, 크기와 비용이 상당히 증가한다는 점에서 특정 응용 분야에는 사용이 적절치 않습니다. 이에 반해 다이오드 모듈은 라인폭이 좁고 연속파 기능을 가지고 있어 자외선 라만 분광에 보다 적절한 옵션이 될 수 있습니다. 기타 자세한 사항은 UVC Photonics의 웹사이트를 참조하십시오.
에드몬드 옵틱스는 자외선(UV) 파장에 맞게 조정된 부품 등 다양한 유형의 레이저 광학 부품을 설계 및 제조합니다. 당사의 UV 레이저 광학 제품은 UV 레이저 시스템의 까다로운 요구 사항을 충족하기 위해 고정밀 표면 허용 오차와 높은 수치의 레이저 손상 임계값을 제공합니다. 266nm(Nd:YAG 레이저의 4차 고조파)에서 사용하도록 설계된 다수의 광학 부품은 261nm에서도 이상 없이 작동합니다. 고객의 특정 어플리케이션 요건에 따라 코팅 및 부품 형태의 맞춤 설계 서비스 또한 이용할 수 있습니다.
UVC Photonics의 레이저 기술이 더 널리 보급되지 않는 이유는 무엇입니까?
일부 어플리케이션의 경우 261nm보다 짧은 파장을 사용하는 추세입니까?
네, 그렇습니다. 현재 관련 업계에서는 극자외선(EUV) 파장이 보편화되어 있지 않으나, 일부 고정밀 실험 분야의 경우 10-100nm의 극자외선 파장을 점차 사용해가는 추세입니다. 극자외선에 관한 트렌드는 여기에서 자세히 알아보십시오 .
UV 레이저에 사용되는 광학 부품은 시간이 지나면서 품질이 저하됩니까?
네, 그렇습니다. UV 레이저 방사선의 고에너지는 시간이 지남에 따라 광학 코팅과 기질의 품질을 저하시켜, 기본적으로 UV 레이저 광학 부품의 소모를 야기합니다.
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