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Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors

13.5nm에서 최대 반사율 달성
EUV 빔 조정 및 고조파 분리용으로 설계
5° 및 45° AOI 버전으로 제공

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors는 설계 파장과 입사각에서 반사율이 최대치에 이르도록 설계된 다층 구조의 미러입니다. 이 미러는 초미세연마 가공된 단일 크리스털 실리콘 기판에 코팅 처리가 되어 3Å RMS 미만의 표면 거칠기를 제공합니다. 45° AOI mirror는 s-편광 빔 조정 용도에 유용한 반면, 5° AOI mirror는 비편광 빔과 함께 사용할 수 있습니다. EUV mirror의 용도로는 Coherent Diffractive Imaging (CDI) 및 소재 과학 연구가 있습니다. 이 밖에도 Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors는 High Harmonic Generation (HHG) 빔을 위한 harmonic selector처럼 사용할 수 있습니다.

참고: 각 미러의 생산 시행 견본에 대한 테스트 데이터는 본품에 함께 포함됩니다.