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New Optical Mirrors

Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirrors
TECHSPEC® 부품은 에드몬드 옵틱스가 설계, 사양 지정 및 제조하는 제품입니다. 더 알아보기
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Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirrors
  • Ti:sapphire 레이저 포커싱에 적합
  • 600 - 1000nm 구간에서 99%가 넘는 반사율
  • 0±20fs2의 낮은 Group Delay Dispersion
  • Effective Focal Lengths from 25 to 500mm
Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirrors
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Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirrors
  • 600 - 1000nm 범위에서 99%가 넘는 반사율
  • ±20fs2의 낮은 Group Delay Dispersion
  • Ti:Sapphire 레이저에 사용하기 적합
  • Standard Imperial Sizes Available
Off-Axis Ellipsoidal Mirrors
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Off-Axis Ellipsoidal Mirrors
  • 산란이 적은 100Å 미만의 표면 거칠기
  • 다이아몬드로 정밀 선삭 가공된 Alignment Surface
  • Finite Conjugate 반사 용도에 적합
45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors 신제품
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45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors
  • 높은 반사율과 음의 Group Delay Dispersion (GDD)
  • 45° 입사각에서의 분산 보정 및 빔 압축에 적합
  • Ti:sapphire 등의 Femtosecond Laser를 위한 디자인
1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors 신제품
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1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
  • 7° AOI에서 최대 -1000 fs2의 Highly Negative GDD
  • 60nm 밴드폭에 걸쳐 99.8%가 넘는 최소 반사율(p-편광)
  • Yb:doped Fiber Laser의 분산 보정에 적합
  • 초고속 처프(Chirped) 코팅
1030nm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors 신제품
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1030nm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors
  • 5° AOI에서 -200 fs2의 Negative GDD
  • 950 - 1120nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
  • Yb:doped Fiber Laser의 펄스 압축용으로 설계
  • 광대역 초고속 처프(Chirped) 코팅
800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors 신제품
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800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
  • 780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
  • 5° AOI에서 -1300fs2의 Group Delay Dispersion
  • Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
  • 초고속 처프(Chirped) 코팅
2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors 신제품
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2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors
  • 2000 - 2200nm 구간에서 99.9%가 넘는 반사율
  • 5° AOI에서 -1000fs2의 GDD
  • 툴륨 및 홀뮴 레이저의 펄스를 100fs 미만으로 압축하는 데 적합
  • 광대역 초고속 처프 코팅(Chirped Coating)
Uncoated Concave Laser Mirrors
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Uncoated Concave Laser Mirrors
  • 레이저 포커싱 용도에 적합
  • 고정밀 용융 실리카 기판
  • 맞춤형 코팅 옵션 이용 가능
Low GDD Ultrafast Mirrors
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Low GDD Ultrafast Mirrors
  • 초고속 빔 조정을 위해 높은 반사율을 제공하도록 설계
  • Ion-Beam Sputtered Coating으로 산란과 흡수가 낮음
  • 설계 파장 범위에서 0±20fs2의 GDD 보유
Off-Axis Parabolic Mirrors with Alignment Through Holes
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Off-Axis Parabolic Mirrors with Alignment Through Holes
  • 포커스된 빔과 시준된 빔에 평행한 Through Hole
  • 다양한 금속 코팅 이용 가능
  • 50Å RMS 미만의 표면 거칠기
Extreme Ultraviolet (EUV) Spherical Mirrors 신제품
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Extreme Ultraviolet (EUV) Spherical Mirrors
  • 초강력 연마된 기판에 Mo/Si 다층 코팅
  • 13.5nm에서 최대 반사율 제공
  • 극자외선(EUV) 포커싱 용도로 설계
  • 좁은 통과 대역으로 HHG 용도에 적합
Laser Line Concave Mirrors
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Laser Line Concave Mirrors
  • 레이저 광 포커싱에 적합
  • 중심 파장에서 99.8%가 넘는 반사율
  • 열적 안정성이 높은 용융 실리카 기판
Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors 신제품
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Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors
  • 13.5nm에서 최대 반사 달성
  • EUV 빔 조정 및 Harmonic 분리 용도로 설계
  • 5° 및 45° AOI 버전으로 이용 가능

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