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New Optical Mirrors

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Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors
  • 13.5nm에서 최대 반사 달성
  • EUV 빔 조정 및 Harmonic 분리 용도로 설계
  • 5° 및 45° AOI 버전으로 이용 가능
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Laser Line λ/20 High Tolerance Right Angle Mirrors
  • 설계 파장에서 99.5%가 넘는 반사율
  • ±15 Arcsecond의 각도 허용 오차
  • 열적 안정성이 높은 기판
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2μm Laser Line Mirrors
  • 2µm, 10ns, 10Hz에서 10 J/cm2가 넘는 Laser Damage Threshold
  • 홀뮴과 툴륨 레이저 광원을 위해 설계됨
  • λ/7의 표면 정밀도
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Low Cost Laser Line Mirrors
  • 설계 파장에서 99%가 넘는 반사율
  • λ/10의 표면 정밀도
  • 우수한 가성비
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ZERODUR® λ/10 First Surface Mirrors
  • 정밀 ZERODUR® 기판
  • λ/10의 표면 평탄도
  • 낮은 열팽창 계수
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Laser Line Concave Mirrors
  • 레이저 광 포커싱에 적합
  • 중심 파장에서 99.8%가 넘는 반사율
  • 열적 안정성이 높은 용융 실리카 기판
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Extreme Ultraviolet (EUV) Spherical Mirrors
  • 초강력 연마된 기판에 Mo/Si 다층 코팅
  • 13.5nm에서 최대 반사율 제공
  • 극자외선(EUV) 포커싱 용도로 설계
  • 좁은 통과 대역으로 HHG 용도에 적합
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Off-Axis Parabolic Mirrors with Alignment Through Holes
  • 포커스된 빔과 시준된 빔에 평행한 Through Hole
  • 다양한 금속 코팅 이용 가능
  • 50Å RMS 미만의 표면 거칠기
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Low GDD Ultrafast Mirrors
  • 초고속 빔 조정을 위해 높은 반사율을 제공하도록 설계
  • Ion-Beam Sputtered Coating으로 산란과 흡수가 낮음
  • 설계 파장 범위에서 0±10fs2의 GDD 보유
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Uncoated Concave Laser Mirrors
  • 레이저 포커싱 용도에 적합
  • 고정밀 용융 실리카 기판
  • 맞춤형 코팅 옵션 이용 가능
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2μm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors
  • 2000 - 2200nm 구간에서 99.9%가 넘는 반사율
  • 5° AOI에서 -1000fs2의 GDD
  • 툴륨 및 홀뮴 레이저의 펄스를 100fs 미만으로 압축하는 데 적합
  • 광대역 초고속 처프 코팅(Chirped Coating)
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800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
  • 780 - 830nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
  • 5° AOI에서 -1300fs2의 Group Delay Dispersion
  • Ti:sapphire Ultrafast Laser의 펄스 압축 용도에 적합
  • 초고속 처프(Chirped) 코팅
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1030nm Highly-Dispersive Broadband Ultrafast Mirrors
  • 5° AOI에서 -200 fs2의 Negative GDD
  • 950 - 1120nm에서 99.8%가 넘는 반사율(p-편광)
  • Yb:doped Fiber Laser의 펄스 압축용으로 설계
  • 광대역 초고속 처프(Chirped) 코팅
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1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
  • 7° AOI에서 최대 -1000 fs2의 Highly Negative GDD
  • 60nm 밴드폭에 걸쳐 99.8%가 넘는 최소 반사율(p-편광)
  • Yb:doped Fiber Laser의 분산 보정에 적합
  • 초고속 처프(Chirped) 코팅
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45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors
  • 높은 반사율과 음의 Group Delay Dispersion (GDD)
  • 45° 입사각에서의 분산 보정 및 빔 압축에 적합
  • Ti:sapphire 등의 Femtosecond Laser를 위한 디자인
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Gaussian Reflectivity Mirrors
  • Laser Cavity 내부에서 반사를 위한 기본 모드 제공
  • 4mm의 중앙 구경에서 가우시안 반사 프로파일 생성
  • 15%부터 최대 35%의 중앙 반사율
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Silicon Semiconductor Supermirrors
  • 현재까지의 Supermirror Technology 중에서 기계적 손실은 가장 적고 열 전도율은 가장 높은 제품
  • 200ppm보다 적은 광학적 손실
  • 대략 3Å의 Microroughness
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Knife-Edge Pickoff Mirrors
  • 콤팩트한 D-Shaped Half Circle 디자인
  • 45° Bevel (비스듬한 면)
  • 다양한 코팅 옵션

  • 궁금한 점이 있으십니까? 기술 지원이 필요하다고요? - 당사 엔지니어에게 문의하세요.

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